Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K475 #9372880 zu verkaufen

ID: 9372880
MOCVD Reactor Missing parts: Controller (2) RT.
VEECO/EMCORE TurboDisc K475 ist ein Reaktor für die Epitaxie von Verbundhalbleitermaterialien. Er wird von einer drehbaren Scheibe angetrieben, mit der ein Substrat durch den Reaktor bewegt wird. Die hochpräzise X-Y-Stufe ermöglicht eine präzise und wiederholbare Bewegung des Substrats in zwei Ebenen zur kontrollierten Abscheidung. Der Reaktor weist einen Source-to-Substrat-Abstand von bis zu 5mm und einen maximalen Substratdurchmesser von 20 "auf. Zur Gewährleistung der Sauberkeit des Reaktors ist die Prozesskammer mit einer diffusionsbeständigen Einrichtung hermetisch abgedichtet. Heizelemente innerhalb der Kammer sorgen für eine konstante Temperatur der Substratoberfläche und Abscheidung. Das System verfügt über eine fortschrittliche Zwei-Quellen-Versorgung mit einem internen Gaskrümmer, der dazu bestimmt ist, bis zu vier Gase durch drei unabhängige Zuführstreifen dauerhaft zu speichern, zu verwalten und zu liefern. Die Heizmaschine ermöglicht programmierbare Temperaturbedingungen und eine gleichmäßige Temperaturregelung, die eine hohe Genauigkeit für zuverlässige Ergebnisse während des Wachstumsprozesses bietet. Der Reaktor ist auch für einfache, wartungsarme Operationen ausgelegt. Es verfügt über eine intuitive Touchscreen-Schnittstelle, um den Computer zu verbinden und Zugriff auf Echtzeit-Maschinensteuerung. Diese Schnittstelle umfasst integrierte Sicherheitsfunktionen wie automatische Abschalt- und Alarmsysteme. Schließlich werden verschiedene Sensoren eingesetzt, um verschiedene Parameter während des gesamten Prozesses zu überwachen. Mit diesen Sensoren können Abscheideraten, Gasdurchflussraten, Kammertemperatur, Substrattemperatur, Prozessvakuum und Gaszusammensetzung erfasst und verwaltet werden. Insgesamt ist VEECO TurboDisc K475 ein fortschrittlicher Reaktor, der für die Epitaxie einer Vielzahl von Verbundhalbleitermaterialien entwickelt wurde. Seine hochpräzise Stufe, Source-to-Substrat-Abstand, Temperaturregelung, Zwei-Quellen-Versorgung und erweiterte Sicherheitsfunktionen sorgen für einen wiederholbaren und zuverlässigen Prozess mit geringer erforderlicher Wartung.
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