Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K475i As/P #9246072 zu verkaufen

VEECO TurboDisc K475i As/P ist ein mit Hochleistungs-Gleichstrom (DC) betriebener kathodischer Lichtbogenplasmareaktor, der für die Hochleistungsabscheidung oder das Ätzen einer breiten Palette von Materialien ausgelegt ist. Dieser Reaktor verwendet ein Gaseinspritzsystem, um ein hochenergetisches Plasma zu erzeugen, mit dem Material mit Umweltmitteln reagiert. Der Reaktor verfügt über ein Direct Negative Input (DNI) Netzteil, das eine stabile und präzise Abscheidung und Ätzung ermöglicht. Die TurboDisc K475i As/P besteht aus einer Kammer, einer Elektronenstrahlkanone, einem Elektronenkollektor (als Elektrode) und einer Anode. EMCORE DC Power Supply in Verbindung mit der Elektronenstrahlpistole erzeugt einen kleinen, intensiven Elektronenstrom, der auf die Oberfläche des Werkstücks (Substrat) trifft. Diese Energie wird dann auf den Lichtbogen übertragen und das Gas aus dem Gaseinspritzsystem in die Kammer eingespritzt. Das Gas ist dadurch gekennzeichnet, daß es weitgehend ionisiert ist; das ionisierte Gas bildet ein Plasma, das die Abscheidungsgeschwindigkeit beschleunigt und die Prozesstemperatur senkt. Die TurboDisc- K475i ist in der Lage, eine konstante Abscheiderate oder Ätzgeschwindigkeit mit höherer Geschwindigkeit als bei herkömmlichen Plasmatechnologien zu erzielen. Seine hohen Leistungsdichteparameter unterstützen komplexe mehrschichtige Abscheidung sowie den Erfolg bei hochdichten Ätzen mit minimalen Wärme- oder Dehnungseffekten. Das Netzteil enthält auch proprietäre Funktionen wie Advanced Power Management Logic (APML), um die für jeden Zyklus erforderliche genaue Leistung zu steuern. Dies ermöglicht auch die volle Kompatibilität mit einer Vielzahl von Vorläuferquellen sowie Substratanforderungen. VEECO/EMCORE TurboDisc K475i As/P eignet sich für eine breite Palette von Präzisionsbeschichtungs- und Oberflächenveredelungsanwendungen, einschließlich Halbleiter- und MEMS-Herstellung, Solarzellenabscheidung und Displays. Der Reaktor ist aufgrund seiner Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit ideal für Forschungs- und Entwicklungs- oder Produktionsaufgaben. Darüber hinaus verfügt das System über breite Betriebsparameter, Anpassungsfähigkeit an eine breite Palette präziser Leistungsstufen sowie erweiterte Intelligenz-, Steuerungs- und Sicherheitsfunktionen für einen störungsfreien Betrieb. Dieser Reaktor bietet daher höchste Qualität und Konsistenz und ermöglicht höhere Durchsätze bei gleichzeitig überlegenen Kosten pro Wafer.