Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc MaxBright #293667120 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc MaxBright Reaktor ist ein leistungsfähiges Halbleiterbearbeitungswerkzeug, das für die effiziente Abscheidung von dünnen Schichten und Nanostrukturen über große Flächen in kurzer Zeit entwickelt wurde. Es ist das erste kommerziell verfügbare schnelle, breite und Dünnschichtabscheidungssystem, das ein fortschrittliches Tri-Disc-Kammerdesign verwendet, um den Durchsatz und die Leistung zu maximieren. Die TurboDisc setzt auf Elektronenstrahl (EB) Verdampfungstechnologie, um Materialien auf Wafern oder Substraten mit doppelseitiger 3D-konformer Abdeckung abzuscheiden. Die EB-Pistole arbeitet mit hohen HF-Frequenzen, um mehrere Elektronenstrahlen mit unterschiedlichen Orbitalen zu drehen, um das gewünschte Ziel auf dem Substrat zu erreichen. Das Ergebnis ist eine schnellere Abscheidung als herkömmliche Single-Source-Abscheidungsmethoden, wodurch deutlich weniger Defekte und Schäden am Substrat entstehen. Die Kammer hat einen sauberen und modularen Aufbau, so dass die Maschine einfach zu warten und neu zu konfigurieren ist. Es verfügt über eine 13 "Substratstufe und kann jedes Muster von über 130 Wafern passen, die in einem Zyklus mit Geschwindigkeiten von bis zu 30 Wafern pro Minute bearbeitet werden. Das System hat auch einen Substrat-zu-Duschkopf-Abstand von 12,7 „für die großflächige Abscheidung und eine Prozesskammerhöhe von 15,75“, die die Abscheidung in einer breiten Massenproduktion von Durchsatz und maximaler Prozessflexibilität ermöglicht. Die TurboDisc verfügt über einen hochauflösenden Monitor und eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit mehreren Prozesssteuerungsoptionen wie Dual-Band- und Multi-Layer-Abscheidung. Es hat auch eine High-Speed-Algorithmus-Steuerung und Rezept-Management für die Verfolgung mehrerer Jobs und Rezepte. Die Software ermöglicht auch die Fernverwaltung von Systemen und die Überwachung von Prozessparametern. Die TurboDisc nutzt die neueste Hardware-Technologie und ist der fortschrittlichste Reaktor der Branche für die Serienproduktion von Dünnschichten und Nanostrukturen. Es wurde entwickelt, um den Durchsatz zu erhöhen und den Materialverlust zu minimieren, wodurch der höchste Ertrag pro Wafer und die höchste Investitionsrendite für eine beliebige Anzahl von Anwendungen zur Abscheidung großer Flächen gewährleistet werden.