Gebraucht VEECO TurboDisc K465 GaN #9410043 zu verkaufen

VEECO TurboDisc K465 Galliumnitrid (GAN) Reaktor ist eine plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) Ausrüstung, die einen hocheffizienten und anspruchsvollen Abscheidungsprozess für die Herstellung von GaN-basierten Halbleiterbauelementen bietet. Es bietet sowohl Prozessflexibilität als auch Wiederholbarkeit, um hohe Erträge und eine hervorragende Geräteleistung zu gewährleisten. Dieses System ist ideal für Anwendungen wie Transistoren, Schottky-Dioden, HEMTs, Hochleistungsgeräte und Laserdioden. Der K465 Reaktor ist kreisförmig ausgebildet und bildet je nach Bedarf eine horizontale oder vertikale Scheibe. Dieses einzigartige Design ermöglicht eine fortschrittliche Gleichmäßigkeitsstruktur, um ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Abscheidungsraten zu gewährleisten. Die Gasverteilereinheit verwendet einen einzigen Gasinjektor mit mehreren diffusen Einspritzöffnungen, die über den Umfang der Prozesskammer verteilt sind. Eine solche Ausgestaltung maximiert die Homogenität der Gasverteilung über die Kammer. Außerdem ist der TurboDisc K465 Reaktor mit einer mehrstufigen, niederdruck-) linearen Schnellpumpen-/Schrupppumpenmaschine für eine effiziente und präzise Druckregelung ausgestattet. Die Verteilerrohrleitung ist für eine längere Lebensdauer aus Edelstahl gefertigt. Der TurboDisc K465 Plasmareaktor zeichnet sich durch einen weiten Plasmabereich und Prozesstemperaturen bis 1000 ° C aus. Es ist in der Lage, Verbindungshalbleiter wie AIN, AlGaN, AlN, GaN und InGaN mit Abscheidungsraten bis 45 nm/min bei ausgezeichneter Gleichmäßigkeit genau abzuscheiden. Die patentierte Substratrotationstechnologie und der breite Leistungsbereich ermöglichen die Optimierung der Abscheidungsprozessbedingungen, um epitaktische Schichten mit hoher Qualität und Gleichmäßigkeit herzustellen. Das TurboDisc K465 Reaktorwerkzeug verfügt über eine äußerst intuitive und benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, um visuelles Feedback zu geben und eine einfache und schnelle Anpassung der Prozessparameter zu ermöglichen. Diese Schnittstelle ermöglicht auch nützliche Datenerfassungs- und Prozessentwicklungsaktivitäten. VEECO TurboDisc K465 GaN Reaktor ist eine zuverlässige, leistungsstarke Abscheidung für die Herstellung fortschrittlicher GaN-basierter Halbleiterbauelemente. Seine einzigartigen Eigenschaften, Prozessflexibilität und Wiederholbarkeit sowie die grafische Benutzeroberfläche machen es zu einer idealen Wahl für Industrie-, Forschungs- und Entwicklungsanforderungen.