Gebraucht VLSI STANDARDS INC PDS-100 #9199485 zu verkaufen

ID: 9199485
Particle deposition system.
VLSI STANDARDS INC. VLSI STANDARDS INC PDS-100 ist ein kompakter und leichter Reaktor für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es handelt sich um einen kontinuierlich durchlaufenden Rührkesselreaktor (CSTR), der für die Herstellung von ultrareinen Halbleiterchemikalien ausgelegt ist. PDS-100 hat einen Betriebstemperaturbereich von -40 ° C bis 340 ° C; es für eine Vielzahl von chemischen Prozessen geeignet zu machen. Es ist mit einem Drei-Achsen-6-Achsen-Bewegungsregler für präzise Bewegungssteuerung und simultane Operationen ausgelegt. Es ist auch mit einem 10-Liter-Reaktionsgefäß und einem 4-Liter-Anodenbehälter ausgestattet. Der maximale Reaktionsdruck beträgt 700 kPa, mindestens 10 kPa. Die VLSI STANDARDS INC PDS-100 verwendet eine Direkttauchheizung zur genauen Temperaturregelung und präzisen Erwärmung. Dieses System wird von einem PID-Regler gesteuert und über Leistungsventile geregelt. Zur Bereitstellung des erforderlichen Drehmoments für einen positiven Reaktionsdruck wird ein variabler Frequenzantrieb (VFD) verwendet. PDS-100 erzeugt im gesamten Reaktor ein gleichmäßiges Temperaturprofil, das für empfindliche Prozesse geeignet ist. VLSI STANDARDS INC PDS-100 verfügt über eine integrierte Reinigungseinheit. Diese Maschine wird verwendet, um eine sauerstofffreie Umgebung zu schaffen, die Oxidation und andere unerwünschte Reaktionen verhindert und den Reaktor für ultraempfindliche Prozesse geeignet macht. Das Spülwerkzeug wird über einen PID-Regler gesteuert und über Sauerstoffventile geregelt. Damit kann das Reaktionsgefäß innerhalb von 10 Minuten von allen gasförmigen Verunreinigungen gereinigt werden. PDS-100 verfügt zudem über robuste Baumaterialien, die für korrosive und gefährliche Anwendungen geeignet sind. Die Reaktorkomponenten sind aus korrosionsbeständigem Stahl und keramischen Werkstoffen aufgebaut. Diese Materialien bieten eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen extreme Temperaturen und Drücke. VLSI STANDARDS INC PDS-100 wurde für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt und erfüllt alle Sicherheitsanforderungen an die Halbleiterherstellung. Der Reaktor ist mit zwei Not-Aus-Schaltern ausgestattet, um die Betriebssicherheit zu gewährleisten. Das gesamte Modell wurde so konzipiert, dass es aus der Ferne betrieben werden kann, sodass während des Betriebs kein Laborpersonal vorhanden sein muss. Darüber hinaus wurde der Reaktor nach ISO 9000-konformen Qualitätssicherungsnormen geprüft. Insgesamt, VLSI STANDARDS INC. PDS-100 Reaktor ist eine fortschrittliche, vielseitige und zuverlässige Lösung für die Herstellung von ultrareinen Halbleiterchemikalien. Es bietet eine präzise Temperatur- und Druckregelung, eine sauerstofffreie Spülvorrichtung für empfindliche Prozesse und robuste Baustoffe für gefährliche Anwendungen.
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