Gebraucht FEI FIB 200 #9120060 zu verkaufen

FEI FIB 200 ist ein fortschrittliches Rasterelektronenmikroskop (SEM), das für eine Reihe detaillierter Anwendungen zur Oberflächenbildgebung und -analyse entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche Bildgebungssystem vereint fokussierte Ionenstrahltechnologie (FIB) mit SEM-Bildgebung, um überlegene Leistung und Fähigkeiten zu bieten. Es ist ideal für Mikroskopie- und Mikroherstellungsarbeiten im Zusammenhang mit nanoskaligen Komponenten und Technologien. FIB 200 verfügt über eine geladene Strahlkammer, die gleichzeitig eine Elektronenkanone und eine fokussierte Ionenkanone aufnimmt. Der Elektronenstrahl dient zur Bildgebung und Analyse und der fokussierte Ionenstrahl (FIB) zur Mikrobearbeitung und Kornentfernung von einer Probenoberfläche. Dies ermöglicht eine außergewöhnliche Auflösung und Bildgebung von extrem kleinen Details. Das Mikroskop arbeitet mit einem Spannungsbereich von 0-30 kV und Strahlströmen von 0-1000 pA. Das Mikroskop weist eine rotatorische Probenstufe auf, die 360 Grad Zugang zu einer Probenoberfläche gibt und automatisch in mehrere Winkel indiziert werden kann. Durch Indexierung einer Probe können großflächige Abbildungen und Analysen über eine relativ große Fläche erfasst werden. Um die resultierenden Bilder und Analysen zu verbessern, sind mehrere Automatisierungsfunktionen enthalten, darunter automatisierte Neigung und Autofokus. Darüber hinaus können mehrere Softwarepakete installiert werden, um die Bildaufnahme, Datenverarbeitung und Vernetzung mit anderen Systemen zu unterstützen. Neben der Bildgebung und Analyse ermöglicht dieses fortschrittliche Tool auch die direkte Schreibnanolithographie. Dies ist eine sehr leistungsfähige Funktion, die für Dünnschichtabscheidung, Musterung, ortsspezifische Herstellung, Mikromaschinen und andere nanoskalige Modifikation verwendet werden kann. Insgesamt ist FEI FIB 200 ein fortschrittliches, hochautomatisiertes Rasterelektronenmikroskop, das für eine Vielzahl von bildgebenden und analytischen Anwendungen entwickelt wurde. Die Kombination aus Elektronen- und fokussierter Ionenstrahltechnologie, leistungsstarker Automatisierung und Nanolithographie machen dieses Werkzeug zum perfekten Instrument für die Materialanalyse und nanoskalige Manipulation.