Gebraucht HITACHI S-3400N Type II #293799289 zu verkaufen
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ID: 293799289
Scanning Electron Microscope (SEM)
Magnification range: 5x to 300000x
Resolution:
Type: SED
Size: 3.0 nm
Power supply: 30 kV
Type: BSED
Size: 4.0 nm
Variable pressure
Power supply: 30 kV
Chamber and stage:
Specimen size: up to 200 mm
X Traverse: 80 mm (Type I), 100 mm (Type II)
Y Traverse: 40 mm (Type I), 50 mm (Type II)
Z Traverse: 5 to 35 mm (Type I), 5 to 65 mm (Type II)
Rotation: 360°
Tilt range: -20° to +90°
Sample height: 40 mm (Type I), 85 mm (Type II)
Manual motorization
5-Axis
Detectors:
SE Detector: everhart-thornley
BSE Detector: five-segment solid-state
Electron source: pre-centered tungsten hairpin
Accelerating voltage: 300 V to 30 kV
Vacuum system:
Turbomolecular pump: 210 liter/sec
Rotary pump: 162 l/min
Variable pressure range: 6-270 Pa
Chamber pump down time: ~90 Seconds
Automatic functions:
Brightness/Contrast Control (ABCC)
Focus Control (AFC)
Stigmator and Focus control (ASF)
Filament Saturation (AFS)
Beam Alignment (ABA)
Beam Setting (ABS)
Objective Aperture Alignment (AAA)
Auto beam blanking
Display and imaging:
LCD Monitor, 19"
Signal mixing (BSE, SE, ESED)
Display mode: Standard, Full screen, Real-Time dual image
Scan mode: TV Rate, Fast scan, Slow scan, Photo scan, Reduced area scan
Image saving and processing:
Pixel resolutions: 640 x 480 mm, 1280 x 960 mm, 2560 x 1920 mm, 5120 x 3840 mm
Frame integration: 2 to 1024
Pseudo color
Digital zoom
Contrast/brightness
Cropping
Resizing
Gamma control
Edge enhancement
Measurement and annotation:
Text
Graphics
Data edger
3D Birds-eye view
Operator assist:
Stage memory (Type II): up to 200 positions
Image navigator
3D Maintenance videos
Magnification presets
Power:
Auto transformer: 100–220 V, Single phase, 2 kVA
Rapid start: 6 min
Anti-vibration system.
HITACHI S-3400N ist ein Rasterelektronenmikroskop (SEM), das für den Einsatz in einer Vielzahl von Forschungs- und Industrieanwendungen entwickelt wurde. Das Gerät verfügt über eine hochauflösende Feldemissionskanone (FEG) mit einer bildgebenden Auflösung von 0,8 nm und einer hohen Punkt-zu-Punkt-Auflösung von 0,17 nm. Dieses Tool bietet hervorragende bildgebende und analytische Fähigkeiten, so dass Benutzer Partikel, kristalline Strukturen, Mikroorganismen und andere kleine Objekte effektiv beobachten können. HITACHI S-3400 N ist mit einer automatisierten Wafer- und Maskenmappingfunktion ausgestattet, die die automatische Ausrichtung von Probenoberflächen wie Halbleiterscheiben ermöglicht. Diese Automatisierung ermöglicht eine schnelle und präzise Analyse von integrierten Schaltungsstrukturen und Photomasken und erhöht die Effizienz des Abbildungsprozesses erheblich. Sobald eine Probe ausgerichtet ist, bietet S 3400 N 5 nm filterfreie Bildgebungs- und Videorate-Bildgebungsgeschwindigkeiten bis 10 Hz. Darüber hinaus bietet das Instrument ein integriertes Scan- und Spektroskopie-Subsystem, das sowohl bildgebende als auch Spektrometeranalysen gleichzeitig ermöglicht. Diese kombinierte Scan- und Bildgebungsfähigkeit ist ideal für Anwender, die beides benötigen, um Probenzusammensetzung, Struktur und Eigenschaften zu bewerten. Ein integrierter Cs-korrigierter Sekundärelektronendetektor und ein Rückstreuelektronendetektor sind ebenfalls enthalten, was eine überlegene Abbildungsleistung in einer Vielzahl von Abbildungsmodi ermöglicht. Darüber hinaus enthält S-3400 N ein fortschrittliches energiedispersives Röntgen- (EDX) Spektrometriesystem, das eine quantitative Elementaranalyse mit einer Genauigkeit von 0,1% ermöglicht. Die Charakterisierung einer Vielzahl von Materialien und Strukturen kann durch Analyse der mit abgelenkten Röntgenpartikeln verbundenen Energie abgeschlossen werden. Das Gerät soll Anwendern höchste Präzision und Kontrolle über die Atmosphäre der Probe während der Analyse bieten, wodurch die Datenqualität verbessert wird. Die Kombination eines Elektronenstrahls, eines EDX-Detektors und eines Umweltkontrollsystems ermöglicht es Anwendern, Probeneigenschaften genauer zu messen und zu analysieren. Insgesamt macht HITACHI S 3400 N durch die Kombination ausgeklügelter analytischer Fähigkeiten und außergewöhnlicher bildgebender Leistung zu einem leistungsstarken Rasterelektronenmikroskop für den Einsatz in Forschungs- und Industrielaboren. Seine überlegene Leistung und überlegene Dynamik ermöglichen es Benutzern, eine Vielzahl von Objekten genau und effektiv zu beobachten und zu analysieren und gleichzeitig eine außergewöhnliche Auflösung und Genauigkeit zu bieten.
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