Gebraucht JEOL JBX-5500FS #293775451 zu verkaufen
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ID: 293775451
Weinlese: 2013
E-Beam lithography system
Electron emitter: TFE (ZrO/W)
Acceleration voltage: 50 keV
Beam current: 30 pA - 20 nA
Field size: 100 µm, 1000 µm
Beam scanning speed: 12 MHz
Manual loader
Wafer holder, 4"
XY Stage
Dry pump
Vacuum pump
Valves
Clean Dry Air (CDA)
Beam shape: Circular spot
Gas: SF6
Stage movement: 104 x 75 mm
Emitter non-functional
Cooling water system:
Flow rate: 6 L/min
Pressure: 0.15 to 0.5 MPa
Temperature: 15° to 32°C
Writing modes:
Accelerating voltage / Objective lens / Maximum write field size / Minimum E-Beam size
25 kV / 4th Lens / 2000 x 2000 µm² / 10 nm
50 kV / 4th Lens / 1000 x 1000 µm² / 5 nm
25 kV / 5th Lens / 200 x 200 µm² / 1 nm
50 kV / 5th Lens / 100 x 100 µm² / 0.5 nm
(3) Cassettes:
BX-Z12016TMPC/S
BX-Z12017TMPC/S
BX-Z0714507W2T
Liquid crystal display
Hard Disk Drive (HDD)
Workstation
PC
Operating system: Windows XP
Manuals included
Power supply: 100-200 VAC, 50/60 Hz
2013 vintage.
JEOL JBX-5500FS ist ein modernes Rasterelektronenmikroskop (SEM), das einen neuen Standard in der hochauflösenden Bildgebung, präzisen Musterung und fortschrittlichen Nanofabrikationsfunktionen setzt. Dieses Instrument ist für eine Vielzahl von Anwendungen in der Materialwissenschaft, Halbleiterforschung, Bioengineering und Nanotechnologie konzipiert. Herzstück von JEOL JBX-5500 FS ist seine elektronenoptische Ausrüstung, die eine Feldemissionselektronenkanone enthält, die einen hochfokussierten Elektronenstrahl mit Sub-Nanometer-Auflösung erzeugen kann. Auf diese Weise erreicht das Mikroskop eine außergewöhnliche Bildgebungsleistung und erfasst detaillierte Oberflächentopographie und ultrafeine Strukturen mit bemerkenswerter Klarheit und Präzision. Die Elektronenquelle mit hoher Helligkeit ermöglicht auch eine verbesserte Signalerkennung und -empfindlichkeit, wodurch sie sich ideal für die Abbildung von Proben mit niedrigem Kontrast oder Elementen mit niedriger Ordnungszahl eignet. Eines der Hauptmerkmale von JBX-5500FS ist seine vielseitige Musterfähigkeit, die durch den Einsatz eines hochpräzisen Elektronenstrahl-Lithographiesystems erreicht wird. Diese Funktion ermöglicht es Forschern, maßgeschneiderte Nanostrukturen und Muster auf einer Vielzahl von Substraten mit einer Auflösung von unter 10 nm zu erstellen. Das Instrument unterstützt eine breite Palette von Lithographiemodi, einschließlich direkter Schreib-, Näherungs- und Projektionslithographie, wodurch Benutzer die Flexibilität erhalten, ihren Musteransatz an ihre spezifischen Bedürfnisse anzupassen. Dank seiner fortschrittlichen Automatisierungs- und Steuerungssysteme bietet JBX-5500 FS eine benutzerfreundliche Schnittstelle, die den Betrieb optimiert und die Reproduzierbarkeit in experimentellen Verfahren gewährleistet. Das Mikroskop ist mit ausgeklügelten Software-Tools zur Bilderfassung, Analyse und Datenverarbeitung ausgestattet, mit denen Anwender schnell hochwertige Bilder erzeugen und wertvolle Einblicke in ihre Proben erhalten können. Darüber hinaus ermöglichen die intuitiven Programmierfähigkeiten des Geräts die einfache Erstellung komplexer Lithographiemuster, was ein schnelles Prototyping und eine effiziente Geräteherstellung ermöglicht. Im Hinblick auf die Nanofabrikation zeichnet sich JEOL JBX-5500FS durch komplizierte Nanostrukturen mit hohen Seitenverhältnissen und präzisen Abmessungen aus. Die Maschine kann eine Vielzahl von Materialien abscheiden und ätzen, darunter Metalle, Polymere und Oxide, so dass Forscher komplexe dreidimensionale Strukturen für eine Vielzahl von Anwendungen erstellen können. Darüber hinaus unterstützt das Mikroskop In-situ-Überwachung und Echtzeit-Feedback während der Fertigungsprozesse und gewährleistet eine genaue Kontrolle über die Größe, Form und Ausrichtung von Funktionen. JEOL JBX-5500 FS ist auch mit einer Reihe fortschrittlicher bildgebender und analytischer Techniken ausgestattet, die seine Vielseitigkeit und Funktionalität verbessern. Dazu gehören die energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDS) für die Elementaranalyse, die Elektronenrückstreuung (EBSD) für die kristallographische Charakterisierung und die Kathodolumineszenz (CL) für die Untersuchung optischer Eigenschaften von Materialien. Durch die Kombination dieser bildgebenden Modalitäten mit seinen hochauflösenden bildgebenden und lithographischen Fähigkeiten bietet das Mikroskop Anwendern ein umfassendes Werkzeugset zur tiefgreifenden Probencharakterisierung und -manipulation. Insgesamt ist JBX-5500FS ein hochmodernes Rasterelektronenmikroskop, das Präzision, Leistung und Vielseitigkeit verkörpert. Die fortschrittliche Elektronenoptik, hochauflösende Bildgebung, präzise Musterung und ausgefeilte Nanofabrikationsmöglichkeiten machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für Forscher und Ingenieure, die in verschiedenen Bereichen der Wissenschaft und Technologie arbeiten. Ob Sie nanoskalige Phänomene untersuchen, benutzerdefinierte Nanostrukturen herstellen oder fortschrittliche Materialien charakterisieren, JBX-5500 FS bietet beispiellose bildgebende Qualität und analytische Leistung, um Innovation und Entdeckung in den Nanowissenschaften voranzutreiben.
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