Gebraucht JEOL JSM 6700F #293598389 zu verkaufen

JEOL JSM 6700F ist ein Rasterelektronenmikroskop (Rasterelektronenmikroskop), das für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen in Industrien im Zusammenhang mit Materialien, Biomolekülen und anderen Nanomaterialien entwickelt wurde. Dieses hochauflösende Mikroskop arbeitet mit Sekundärelektronen, die aus einem Primärelektronenstrahl erzeugt werden, und ist mit einer Feldemissionskanone ausgestattet, die die Auflösung und Genauigkeit von SEM-Bildern verbessert. JEOL JSM 6700 F bietet mit der Feldemissionsrasterelektronenmikroskopie (FE-SEM) einen hochkohärenten und energiereichen Elektronenstrahl, der Funktionen bis in den Sub-Nanometer-Bereich auflösen kann. JSM 6700F verwendet eine elektrostatische Polstück-Linse und eine Reihe von Kondensatorlinsen, um den Elektronenstrahl zu fokussieren, was dem Instrument beispiellose Genauigkeit und Präzision verleiht. Erweiterte Funktionen, wie digitale Signalprozessoren (DSPs), die es bietet, helfen, unerwünschte Streuungen zu reduzieren und klare Bilder mit erhöhter Stabilität zu erzeugen. JSM 6700 F hat auch die Fähigkeit, in drei Dimensionen mit seinem fortgeschrittenen Stadium zu scannen, so dass der Benutzer tiefere Schichten von Proben zu finden und einen besseren Einblick in die internen Strukturen von Materialien zu erhalten. Dies macht es perfekt für Anwendungen wie bildgebende Zellen, Gewebeforschung und Nanomaterialien. Der Sekundärelektronendetektor (SED) von JEOL JSM 6700F kann auch Bilder in hoher Qualität erzeugen. Diese Technologie arbeitet mit einem rückgestreuten Elektronendetektor (BSE), um Bereiche mit einem hohen Elektronenstreuungswinkel zu analysieren und abzubilden, was den Aufbau dreidimensionaler Bilder von Proben ermöglicht. Dieser hochpräzise Detektor hat auch den zusätzlichen Vorteil, viel höhere Bildauflösung im Vergleich zu anderen SEMs zu erzeugen. JEOL JSM 6700 F ist auch eine leistungsstarke, die Anwendern eine breite Palette von Funktionen bietet, einschließlich Live-Mikroskop-Display, Autofokus, druckregulierte Bildgebung, verbesserte Luftabschirmung und niedrige optische Aberrationskorrektur. Dieses Instrument kann in nahezu jeder industriellen Umgebung wie in Halbleitern, Luft- und Raumfahrt und Biomedizin eingesetzt werden und ist für Forschungs- und/oder Entwicklungsanwendungen sehr empfehlenswert.