Gebraucht JEOL JSM 820 #9200141 zu verkaufen
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JEOL JSM 820 ist ein Rasterelektronenmikroskop (Rasterelektronenmikroskop, SEM) für die Präzisionsbildgebung im Nanoskalibereich. Das Design dieses Instruments ist für eine Vielzahl von Anwendungen optimiert, einschließlich der Abbildung von biologischen Proben und der 3D-Topographie-Abbildung einer Reihe von Materialien. Es hat ausgezeichnete niedrige Stromspannungselektronenergiefähigkeiten, Bilder berücksichtigend, die an sehr niedrigen Stromspannungen mit der hohen Auflösung zu gewinnen sind. Dies hilft, Probenschäden bei der Abbildung empfindlicher Proben zu minimieren. JSM 820 bietet auch digitale Bildgebungsfunktionen, einschließlich einer verfügbaren Kamera, die 16-Bit-Graustufenbilder zur genauen Visualisierung von Probenoberflächen erzeugen kann. Das Mikroskop verfügt zudem über eine minimale Spotauflösung bis auf 2 nm und ermöglicht im Spotscan-Modus die Abtastung von Bereichen bis 250 x 250 μ m. JEOL JSM 820 verfügt über eine umfangreiche Palette von In-Linsen-Detektoren zur Sammlung mehrerer Signale, einschließlich Sekundärelektronen (SE), Rückstreuelektronen (BSE) und Röntgenstrahlen. Diese Elektronendetektoren bieten ein extrem breites Spektrum in Bezug auf Empfindlichkeit und maximalen Dynamikbereich. Eines der bequemsten Merkmale von JSM 820 ist seine große Probenkammer - mit einem Probenhöhenspiel von bis zu 67 mm -, wodurch es einfach ist, große Proben in das Mikroskop zu laden, so dass sie manipuliert werden können, ohne sie aus der Kammer entfernen zu müssen. Darüber hinaus bietet JEOL JSM 820 ein ausgestattetes automatisiertes Probentransfersystem mit automatisierten Probenbeladungsmöglichkeiten, das das Risiko einer Probenkontamination verringert. Mit seinen leistungsstarken Bildgebungsfunktionen und zuverlässiger Leistung ist JSM 820 ein ideales SEM für eine Vielzahl von Anwendungen. Es ist eine besonders zuverlässige Wahl für diejenigen, die daran interessiert sind, empfindliche Proben abzubilden, ohne Schäden zu verursachen, oder große Bereiche mit einer Mindestfleckauflösung von 2 nm abzubilden.
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