Gebraucht JEOL JSM 840A #9102734 zu verkaufen

JEOL JSM 840A ist ein Rasterelektronenmikroskop, das eine hochauflösende Bildgebung und Analyse von Proben mit großer Feldtiefe zur besseren Analyse ermöglicht. Seine Ultrahochvakuum (UHV) -Umgebung und Feldemissionselektronenquelle bieten eine gute Bildauflösung. Es verfügt über eine Feldemissionskanone mit einer speziellen optischen Ausrüstung, um einen idealen Elektronenstrahl zu erzeugen und eine bessere Bildauflösung zu erzielen. Seine Sekundär- und Rückstreudetektoren mit einer Auflösung von 3Å können die Elektronen nachweisen, die von der Probe emittiert werden. JEOL JSM-840A hat eine Stufenkapazität von 300mm, einen Beschleunigungsspannungsbereich von 1kV bis 30kV und eine ECTW-Funktion (Electron Column For Traveling Wave), mit der Experimente wie die Beobachtung chemischer Reaktionen in situ durchgeführt werden können. Darüber hinaus verfügt dieses System über eine Hochgeschwindigkeits-Navigationseinheit und automatisierte Stufenschaltfunktionen - für schnellen Probentransfer und automatisiertes Mapping. Dieses SEM enthält auch eine native 3D-Fähigkeit zur Untersuchung von Beispielstrukturen. Es hat ein hohes Zoomverhältnis von bis zu 250X, eine Zellabbildungsstufe und eine automatisierte Bildaufnahme und Nähfunktion. Diese Maschine hat eine maximale Vergrößerung von 400,000X, so hat es große Fähigkeit, kleine Merkmale oder Partikel zu vergrößern. Es verfügt über einen 4-Quadranten-Detektor für Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDX), der eine Kombination aus Elementaranalyse und Bildgebung ermöglicht. JSM 840A verfügt auch über eine Bildverarbeitungseinheit, die die Bildqualität verbessern kann, indem sie die Helligkeit und den Kontrast ändert, Rauschen eliminiert und die Kanten von Objekten schärft. Darüber hinaus kann es auch eine einzelne, Vollfeld-A3-Abbildung in 15 Sekunden erfassen und bietet die Möglichkeit, mehrere Felder für das Zusammenschneiden als Mosaik zu erfassen. Dieses Rasterelektronenmikroskop ist ein ideales Werkzeug für Anwendungen wie Fehleranalyse, Fehleranalyse und Oberflächenanalyse. Seine hochauflösende Bildgebung macht es ideal für die Beobachtung von nanoskaligen Strukturen und Prozessen.