Gebraucht KLA / TENCOR 8100 #9203296 zu verkaufen

KLA/TENCOR 8100 ist ein Rasterelektronenmikroskop (SEM) mit hoher Leistung, das sowohl für die bildgebende als auch für die kompositorische Analyse entwickelt wurde. Es verfügt über eine Kaltfeldemitterquelle und einen Hochleistungs-SE-Detektor. Das elektronenoptische System basiert auf einem fortschrittlichen Säulendesign und bietet eine außergewöhnliche Bildgebungsfähigkeit über eine Vielzahl von Arbeitsabständen und Vergrößerungen. Das Mikroskop ist zur Subnanometer-Auflösung in der Lage und kann im emissionsarmen Modus kleine Strahlgrößen für die Zusammensetzungsanalyse aufnehmen. Die KLA 8100 verfügt über eine hohe analytische Empfindlichkeit und bietet eine fortschrittliche Scan- und Präzisionskontrolle für eine effiziente Bildgebung und kompositorische Analyse. Es ist in der Lage, Tiefenprofile, um die chemische Zusammensetzung in der Tiefenrichtung zu analysieren. Es verfügt über einen integrierten optisch verbesserten Backscatter-Detektor und Dual-Ionen-Detektoren, die das Ionen-Energiespektrum für elementare Kartierung und Zusammensetzungsanalyse messen. TENCOR 8100 bietet eine breite Palette von Automatisierungsfunktionen für benutzerfreundliche Workflows, einschließlich Probenhandling, Probenorientierungserkennung, automatisierte Bilderfassung und integrierte Aufgaben wie Bildnähte. Das Mikroskop kann in Kombination mit niedrigen und mittleren Vakuummessstufen zur Ausrichtung und Handhabung des automatischen SEM-Probenaustauschs zwischen Mikroskop und Vakuumstufen eingesetzt werden. 8100 erzeugt Bilder mit ausgezeichnetem Kontrast und hohem Signal-Rausch-Verhältnis bei niedrigen Strahlströmen, so dass der Benutzer maximale Details und ein großes Sichtfeld mit minimalen Ladefartefakten erhalten kann. Die automatisierten Funktionen und die softwaregesteuerte Bildsynthese reduzieren die Bedienzeit für multivariate Analysen. KLA/TENCOR 8100 ist ein ideales Werkzeug für die Halbleiterfehleranalyse und untersucht eine breite Palette von Materialien wie Metalle, Keramik, Anorganik, Verbundwerkstoffe, industrielle Polymere und biologische Proben. Es eignet sich auch zur Charakterisierung von Gerätestrukturen, zur Beurteilung von Oberflächenmorphologie und lithographischen Defekten sowie zur Messung von Partikelgröße, Form und Oberflächenrauhigkeit.