Gebraucht KLA / TENCOR 8100XP #293662978 zu verkaufen
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KLA/TENCOR 8100XP ist ein Rasterelektronenmikroskop (SEM), das vom führenden Hersteller für optische Messtechnik und Inspektion UCK entwickelt wurde. Es bietet unübertroffene Leistung in der Oberflächenanalyse, Bildgebung und Fehlerinspektion. KLA 8100XP verfügt über ein fortschrittliches PrimEx-Strahlsystem, das ultimative Bildqualität in allen Anwendungen bietet. Es stellt präzise und hochauflösende 3D-Bilder mit beispielloser Detailtiefe und Kantentreue dar. Es hat die Fähigkeit, mit Leichtigkeit in Defektbereiche unterschiedlicher Tiefe zu schauen und die Flexibilität, je nach Anwendung die besten Bilder zu erhalten. TENCOR 8100 XP ist mit einem großen 8-Zoll-Wafer-Sichtfeld ausgestattet, das eine schnellere Analyse und detailliertere Bilder ermöglicht. Die hochauflösenden Bilder werden mit einer beispiellosen Auflösung von 6,4 nm erzeugt, was es ideal macht, um feine Merkmalsdetails in Bauelementstrukturen wie Transistoren, MEMS-Strukturen und dünnen Filmen zu identifizieren. Verbunden mit seiner Hochleistungsdatenerfassungsfähigkeit erlaubt dieser SEM Ihnen, sich schnell ändernde Phänomene in situ und in Realtime zu beobachten. Darüber hinaus verfügt 8100 XP über eine umfassende Suite an Analysefunktionen. Es ist mit einem rückseitigen Abbildungssystem ausgestattet, das eine vollständige Querschnittsansicht von Strukturen ermöglicht und einen direkten Vergleich mit Konstruktionsspezifikationen ermöglicht. Die erweiterte Mikroanalyse-Fähigkeit, ermöglicht durch eine große Auswahl an Detektoren, bietet fortschrittliche Energie-dispersive Spektroskopie (EDS) und Energie-Filter-Bildgebung (EFI) wichtige elementare Informationen aus der Probe zu extrahieren. Darüber hinaus verfügt 8100XP über eine automatisierte Bühne und eine intuitive Workflow-Automatisierungssoftware. Dieses benutzerfreundliche Paket ermöglicht eine höhere Produktivität und verbesserte Genauigkeit bei der Messtechnik und Fehlerinspektion. KLA/TENCOR 8100 XP ist das führende SEM für schnelle, genaue und wiederholbare hochauflösende Oberflächenanalyse und Fehlerinspektion. Die benutzerfreundliche Plattform, die umfassenden Analysefähigkeiten und das fortschrittliche Bildgebungssystem machen es zum idealen Instrument für Forschung und industrielle Anwendungen.
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