Gebraucht LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus #9228860 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9228860
Electron beam lithography system
Beam generation:
Cathode: Thermal field emitter (TFE)
Schottky emitter (SE)
Beam deflection:
Method: Spot beam recorder, vector scan
Large field: 1,000 x 1,000 lbs gm2
Addressing: 20 bits main field, 14 bits sub field
Minimum address increm: 1 nm
Maximum frequency: 50 MHz
Automatic corrections
Stage:
Laser interferometer: 1024 (~0.6 nm)
Writing area: 150 x 150 mm^2
Substrate size: Up to 6"
Miscellaneous
Cassette: 10 Positions
Mechanical steaming system: Piezo active
Operating system: Linux Redhat 5
Pre-alignment microscope
Size / Thickness
3" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
4" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
5" Square / Mask / 90 mil / 2.5 mm
6" Square / Mask / 250 mil / 6.35 mm
3"-5" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
2" Round / GaAs wafer / 300 µm – 500 µm / 1,0 mm
3" Round / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
36 m Square / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
4" Round / Si wafer / 500 µm / 2 mm
4" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
6" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
Power supply:
High voltage: 20, 50, 100 kV.
LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus Rasterelektronenmikroskop ist ein führendes Instrument in der modernen Mikroskopie. Es ist hochauflösend und verfügt über eine Reihe von Funktionen, die eine genaue Beobachtung und Messung ermöglichen. EBPG 5000 Plus verwendet einen Elektronenstrahl, um eine zu untersuchende Probe zu scannen und abzubilden, und die elektronenoptische Ausrüstung bietet ausgezeichnete Bildklarheit, Auflösung und Fokustiefe. LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus enthält eine ausgeklügelte Software, die Bildverarbeitungsfunktionen wie Oberflächenrendering und 3D-Rekonstruktionen eines Objekts bietet. Diese erweiterte Software ermöglicht auch die Bearbeitung der Bildeigenschaften wie Helligkeit, Kontrast, Zoom und Auflösung. Eine weitere Analyse des Bildes kann durch Softwarewerkzeuge einschließlich Partikelanalyse, Partikelgrößen- und Dickenmessung erfolgen. EBPG 5000 Plus umfasst auch mehrere Hardwarekomponenten, darunter einen In-Column-SE-Detektor, einen ESEM-Detektor, einen ESEM/Q-Sensor und ein Dual-Gun-System. Der In-Column-SE-Detektor ermöglicht die Erfassung von Bildern mit hoher Vergrößerung und Auflösung, während die Dual-Gun-Einheit eine gleichzeitige Abbildung von zwei unterschiedlichen Elektronenemissionen ermöglicht. Der ESEM-Detektor detektiert Sekundärelektronen und wird verwendet, um nicht-leitende Proben wie biologische Materie abzubilden, während der ESEM/Q-Sensor Auflösung und Kontrast für große Bereiche verbessert. LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus verfügt außerdem über eine Vakuummaschine zur Bereitstellung der erforderlichen Vakuumumgebung für den Betrieb des Elektronenmikroskops. Das Werkzeug hat Toleranz für Gase, so dass es verwendet werden kann, um eine Vielzahl von Proben einschließlich Atmosphäre empfindliche Proben zu untersuchen. Die Vakuumpumpe sorgt auch für minimale Vibrationen des Vakuumgehäuses, wodurch Bilder mit hoher Auflösung und scharfem Kontrast aufgenommen werden können. Insgesamt ist das Rasterelektronenmikroskop EBPG 5000 Plus ein leistungsstarkes Werkzeug für die Mikroskopie, mit dem Forscher Materialien mit hoher Auflösung, Genauigkeit und Geschwindigkeit beobachten und messen können. Seine verschiedenen Merkmale und Komponenten ermöglichen eine breite Palette von Analyse und Untersuchung von Proben, so dass es eine ideale Wahl für Labor- und Forschungseinstellungen.
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