Gebraucht PHILIPS / FEI Quanta 3D FEG #293732731 zu verkaufen
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ID: 293732731
Focused Ion Beam Scanning Electron Microscope (FIB-SEM)
Electron beam resolution:
High vacuum:
1.2 nm at 30 kV (SE)
2.9 nm at 1 kV (SE)
Low vacuum:
1.5 nm at 30 kV (SE)
2.9 nm at 3 kV (SE)
Extended low-vacuum mode
1.5 nm at 30 kV (SE)
Ion beam resolution:
7 nm at 30 kV at beam coincident point
Detectors:
Everhardt-Thornley SED
Low vacuum SED
Gaseous SED (used in ESEM mode)
IR-CCD
Chambers:
379 mm left to right
21 ports
10 mm E- and I-beam coincidence point
Angle between electron and ion columns: 52°
High-vacuum: < 6e-4 Pa
Low-vacuum: 10 to 130 Pa
ESEM-vacuum: 10 to 4000 Pa
5-Axis motorized stage:
Eucentric goniometer stage
Z = 25 mm
X = 50 mm
Y = 50 mm
Maximum sample height = 50 mm
T=-15° to +75°
R = n x 360°
Minimum step: 300 nm
Repeatability at 0° tilt; 2 μm
Repeatability at 52° tilt; 4 μm
Gas chemistry:
Tungsten metal deposition
Gold deposition
Insulator deposition (SiO2)
Enhanced metal etch
Insulator enhanced etch (XeF2)
Delineation etch
Carbon deposition
System control:
32-Bit graphical user interface
Keyboard
Optical mouse
Operating system: Windows XP
LCD Display, 19"
PC
Multi-functional control panel.
PHILIPS/FEI Quanta 3D FEG ist ein Feldemissionsrasterelektronenmikroskop (FE-SEM), das eine ultrahochauflösende Abbildung von Materialien über alle Felder hinweg ermöglicht. Dieses vielseitige Instrument kombiniert die fortschrittliche Field Emission Gun (FEG) -Technologie von FEI mit der robusten Scanelektronik von PHILIPS, um eine leistungsfähige Bildgebungsplattform für die nanoskalige Bildgebung und Analyse zu bieten. FEI Quanta 3D FEG ist eine kompakte Ausrüstung mit hochauflösender Bildgebung bei einer Auflösung von bis zu 1 Nanometer. Mit einem breiten Sichtfeld von bis zu 50 Millimetern ist dieses System in der Lage, große Flächen einer Probe mit einem einzigen Scan sehr detailliert zu erfassen. Das Instrument ist so konzipiert, dass selbst komplexeste dreidimensionale Strukturen leicht aufgenommen werden können. Das Instrument verfügt über eine automatisierte Probenstufe, die sich bis zu 150 mm in der x-, y- und z-Achse bewegen kann, was die große Bildgebung im Sichtfeld erleichtert. Das Gerät verfügt zudem über eine fortschrittliche Elektronensäulensteuerung, die eine automatisierte Optimierung der optimalen Abbildungsbedingungen für unterschiedlichste Materialien ermöglicht. Dies ermöglicht es Routineanwendern, leicht qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen. Die Quanta 3D verfügt zudem über eine vielseitige automatisierte Probenhandhabungsmaschine. Diese fortschrittliche Technologie kann die Probenplatzierung für verschiedene Arten von Bildgebung wie Niederspannungs-Sekundärelektron, starkes In-Linsen-Sekundärelektron und Rückstreuelektronenbildgebung ändern. Die Quanta 3D kann auch fortschrittliche Elementaranalysen (EDX und EBSD) und Ionenstrahlanalysen (IBM und ISS) durchführen, um Kompositionsinformationen und Sub-Mikron-Details zu erfassen. Neben vielen Funktionen umfasst die Quanta 3D auch verschiedene Softwarepakete, die eine erweiterte Datenanalyse und -manipulation ermöglichen. Mit der Software können Anwender auf 3D-Rekonstruktionen, Oberflächenprofilierung und digitale Bildverarbeitung zugreifen. Diese Eigenschaften machen die Quanta 3D zu einem idealen Instrument zur Bildgebung und Charakterisierung unterschiedlichster Materialien.
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