Gebraucht KRATOS ANALYTICAL Axis Ultra DLD #293825422 zu verkaufen

ID: 293825422
Weinlese: 2010
X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) system Uninterruptible Power Supplies (UPS) Scanning Acoustic Microscope (C-SAM) Ar Sputter gun 2010 vintage.
KRATOS ANALYTICAL Axis Ultra DLD-Spektrometer ist ein modernes Instrument für erweiterte Oberflächenanalyse und Tiefenprofilerstellung Anwendungen in den Bereichen Materialwissenschaft, Nanotechnologie und Oberflächenchemie entwickelt. Dieses hochmoderne Spektrometer integriert eine Dual-Mikrofokussierungs-Röntgenquelle mit einem Mehrkanal-Detektorsystem und bietet außergewöhnliche Leistungs- und Analysefähigkeiten für Forscher und Wissenschaftler. Kern des Axis Ultra DLD-Spektrometers ist die innovative Dual-Mikrofokussierungs-Röntgenquelle, die aus zwei unabhängig gesteuerten Röntgenquellen besteht, die gleichzeitig oder sequentiell arbeiten können. Diese Dual-Source-Konfiguration ermöglicht eine hochauflösende elementare und chemische Bildgebung mit erhöhter Empfindlichkeit und räumlicher Auflösung. Die Röntgenquellen sind mit Mikrofokussieroptiken ausgestattet, die eine kleine Punktgröße erzeugen und eine präzise Analyse von Proben mit komplexen Oberflächenmerkmalen ermöglichen. Das Mehrkanal-Detektorsystem im KRATOS ANALYTICAL Axis Ultra DLD Spektrometer besteht aus einem ausgeklügelten Array von Röntgendetektoren, die für verschiedene Analysetechniken und Detektionsmodi optimiert sind. Das Detektorsystem kann eine breite Palette von Röntgenenergien und Signalintensitäten aufnehmen und ist somit für verschiedene analytische Anwendungen vielseitig einsetzbar. Das Multichannel-Design ermöglicht den gleichzeitigen Nachweis mehrerer Elemente und chemischer Spezies, was die Effizienz und den Durchsatz der Analyse verbessert. Eines der Hauptmerkmale des Axis Ultra DLD-Spektrometers ist seine dynamische Tiefenprofilierungsfähigkeit, die es Forschern ermöglicht, die chemische Zusammensetzung von Materialien in verschiedenen Tiefen zu untersuchen. Diese Tiefenprofilierungsfunktion wird durch den Einsatz eines in das Spektrometer integrierten Dynamic SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry) Moduls erreicht. Das dynamische SIMS-Modul verwendet einen fokussierten Ionenstrahl, um die Oberfläche der Probe zu sputtern und die Analyse von elementaren und molekularen Spezies in verschiedenen Tiefen des Materials zu ermöglichen. Neben der Tiefenprofilierung bietet das KRATOS ANALYTICAL Axis Ultra DLD Spektrometer eine Reihe fortschrittlicher Analysetechniken für die Oberflächenanalyse, darunter XPS (Röntgenphotoelektronenspektroskopie), AES (Auger Electron Spectroscopy) und ISS. Diese Techniken liefern wertvolle Informationen über die elementare Zusammensetzung, die chemische Bindung und die Oberflächenmorphologie der untersuchten Proben. Die hohe Empfindlichkeit und Auflösung des Spektrometers machen es ideal für die Untersuchung von dünnen Filmen, Beschichtungen, Nanomaterialien und anderen fortschrittlichen Materialien. Das Axis Ultra DLD-Spektrometer ist mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche und einer leistungsstarken Software-Suite ausgestattet, die eine nahtlose Datenerfassung, -verarbeitung und -analyse ermöglicht. Die Software bietet erweiterte Tools zur Datenvisualisierung, Algorithmen zur spektralen Dekonvolution und quantitative Analysefunktionen, um wertvolle Erkenntnisse aus den Spektraldaten zu extrahieren. Forscher können experimentelle Parameter einfach anpassen, automatisierte Workflows erstellen und detaillierte Berichte für ihre Forschungsprojekte erstellen. Insgesamt ist das KRATOS ANALYTICAL Axis Ultra DLD-Spektrometer ein hochmodernes Instrument, das außergewöhnliche Leistung, Vielseitigkeit und analytische Fähigkeiten für erweiterte Anwendungen zur Oberflächenanalyse und Tiefenprofilerstellung bietet. Das Axis Ultra DLD-Spektrometer ist mit seinem innovativen Design, seinen dynamischen Tiefenprofilerstellungsfähigkeiten und seinen fortschrittlichen Analysetechniken ein wertvolles Werkzeug für Forscher und Wissenschaftler in den unterschiedlichsten Bereichen der Materialwissenschaft und Oberflächenchemie.
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