Gebraucht ACCUSPUTTER AW 4450 #9201786 zu verkaufen
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ID: 9201786
Wafergröße: 8"
Sputtering system, 8"
Wafer loading: Manual
With load lock
Cathodes: (3) Delta shapes / (4) Circle shapes
Sputter methods: RF / DC
Diode / MAGNETRON
Gas lines: 1~3 MFC
Options:
Gas lines with MFC
N2
O2
Customized
Lamp tower alarm with buzzer:
Mechanical pump / Dry pump for process chamber and load lock
Independent mechanical pump / Dry pump for process chamber
Chiller for cooling plates and table
Turbo pump for load lock
Load lock lamp heating function: Up to 200°C
Chamber lamp heating function: Up to 300°C
Plasma etch function
Bias function
Co sputter function
Reactive sputter function
Main frame
28" Diameter SST chamber top plate with ports and cathodes:
Configuration I II
Cathode shape Circle Delta
Cathode size 8" Delta
Cathode quantity 1 to 4 1 to 3
Sputter power supply:
Configuration I II III
DC Power 5 kW 10 kW -
RF Power 1kW 2 kW 3 kW
Pulse DC power 5 kW 10 kW -
Process chamber:
8" Diameter x 12" High stainless steel cylinder with 6"
CF Flange view port and load lock port
28" Diameter stainless steel base plate
11/2" Air operated roughing isolation valve
Air operated gas inlet valve
Air operated vent valve
11/2" Blanked-off leak check port
Removable deposition shields
23" Diameter, 3-position water cooled annular substrate
Table with variable speed motorized table drive
Full circle shutter and vane shutter
Chain drive pallet carrier transport
Heavy duty electric hoist
Load lock:
30" x 28" x 8" Stainless steel load lock chamber
Aluminum cover
Chain drive pallet carrier transport
2" Air operated roughing isolation valve
Air operated vent valve
23" Diameter molybdenum annular substrate pallet
Elevator for pallet up and down function
Vacuum systems for process chamber:
(2) Stage cryo pumps
With 1000 l/s pumping speed for air
Includes:
Chevron
Water cooled compressor and lines
Automatic regeneration controller
Plumbing kit, 71/2"
Aluminum air operated gate valve: 6" ASA
Air operated venetian blind throttling valve
Mechanical pump or dry pump for process: 36.7 Cfm
Chamber and load lock
Gas line with MFC
Ar, 200 SCCM, customized
Power box: AC 380 V / 208 V / 3 Phase.
ACCUSPUTTER AW 4450 ist eine fortschrittliche Dünnschicht-Abscheidung Ausrüstung. Dieses industrielle Gerät wurde entwickelt, um dünne Metall- und dielektrische Schichten auf der Oberfläche einer Vielzahl von Substraten wie Siliziumscheiben, Drähten, Fasern, elektronischen Komponenten und mehr zu erzeugen. Durch physikalische Aufdampfung erzeugt AW 4450 dünne Filme gleichmäßiger und gleichbleibender Dicke auf hocheffiziente Weise. ACCUSPUTTER AW 4450 wird von einem Hochfrequenzgenerator (RF) mit einem Frequenzbereich von 13,56 MHz oder 40 kHz angetrieben. Dies ermöglicht präzises und leistungsstarkes Sputtern, wodurch dünne Filme mit sehr konsistenten Eigenschaften in stark wiederholbarer Weise abgelegt werden können. Weiterhin ist die HF-Leistung einstellbar, wodurch der Anwender die Abscheiderate und die Schichtdicke genau kontrollieren kann. Die AW 4450 ist mit einer Hochvakuumkammer ausgestattet, die 1,3 × 10-4 Pa erreichen kann, einer automatischen Vakuumeinrichtung und einer in die differenzgepumpte Prozesskammer integrierten Turbopumpe. Dies ermöglicht eine genaue und präzise Kontrolle des Sputterbeschichtungsprozesses. Darüber hinaus bietet das System Platz für Probengrößen bis zu 50 mm. Mit seiner HVQ-Polaritätssteuerung kann ACCUSPUTTER AW 4450 auch mehrschichtige Folien mit größerer Genauigkeit und Kontrolle ablegen. Um ein qualitativ hochwertiges Produkt zu gewährleisten, ist AW 4450 mit fortschrittlichen Steuerungs- und Überwachungssystemen ausgestattet. Dazu gehören ein Prozesspotentialmonitor, ein Substrat-Vorspannungsmonitor und ein Plasmapotentialmonitor, die alle in Echtzeit überwacht werden können. Darüber hinaus ist die Einheit mit einem Massenstromregler ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Reinheit des Prozessgases während des gesamten Prozesses auf einem gleichbleibenden Niveau gehalten wird. ACCUSPUTTER AW 4450 ist eine leistungsstarke und hochgenaue Sputtermaschine, die für eine Vielzahl von Sputteranwendungen entwickelt wurde. Durch seine präzise HF-Leistungseinstellung, seine Hochvakuumkammer, seine differentielle Pumpung der Sputterkammer, seine präzisen Steuerungs- und Überwachungssysteme und seine Fähigkeit, Probengrößen von bis zu 50 mm zu handhaben, ist dieses Werkzeug die perfekte Wahl für eine Reihe von industriellen Anwendungen, bei denen Präzision und Wiederholbarkeit unerlässlich sind.
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