Gebraucht ACCUSPUTTER AW 4450 #9201786 zu verkaufen

Hersteller
ACCUSPUTTER
Modell
AW 4450
ID: 9201786
Wafergröße: 8"
Sputtering system, 8" Wafer loading: Manual With load lock Cathodes: (3) Delta shapes / (4) Circle shapes Sputter methods: RF / DC Diode / MAGNETRON Gas lines: 1~3 MFC Options: Gas lines with MFC N2 O2 Customized Lamp tower alarm with buzzer: Mechanical pump / Dry pump for process chamber and load lock Independent mechanical pump / Dry pump for process chamber Chiller for cooling plates and table Turbo pump for load lock Load lock lamp heating function: Up to 200°C Chamber lamp heating function: Up to 300°C Plasma etch function Bias function Co sputter function Reactive sputter function Main frame 28" Diameter SST chamber top plate with ports and cathodes: Configuration I II Cathode shape Circle Delta Cathode size 8" Delta Cathode quantity 1 to 4 1 to 3 Sputter power supply: Configuration I II III DC Power 5 kW 10 kW - RF Power 1kW 2 kW 3 kW Pulse DC power 5 kW 10 kW - Process chamber: 8" Diameter x 12" High stainless steel cylinder with 6" CF Flange view port and load lock port 28" Diameter stainless steel base plate 11/2" Air operated roughing isolation valve Air operated gas inlet valve Air operated vent valve 11/2" Blanked-off leak check port Removable deposition shields 23" Diameter, 3-position water cooled annular substrate Table with variable speed motorized table drive Full circle shutter and vane shutter Chain drive pallet carrier transport Heavy duty electric hoist Load lock: 30" x 28" x 8" Stainless steel load lock chamber Aluminum cover Chain drive pallet carrier transport 2" Air operated roughing isolation valve Air operated vent valve 23" Diameter molybdenum annular substrate pallet Elevator for pallet up and down function Vacuum systems for process chamber: (2) Stage cryo pumps With 1000 l/s pumping speed for air Includes: Chevron Water cooled compressor and lines Automatic regeneration controller Plumbing kit, 71/2" Aluminum air operated gate valve: 6" ASA Air operated venetian blind throttling valve Mechanical pump or dry pump for process: 36.7 Cfm Chamber and load lock Gas line with MFC Ar, 200 SCCM, customized Power box: AC 380 V / 208 V / 3 Phase.
ACCUSPUTTER AW 4450 ist eine fortschrittliche Dünnschicht-Abscheidung Ausrüstung. Dieses industrielle Gerät wurde entwickelt, um dünne Metall- und dielektrische Schichten auf der Oberfläche einer Vielzahl von Substraten wie Siliziumscheiben, Drähten, Fasern, elektronischen Komponenten und mehr zu erzeugen. Durch physikalische Aufdampfung erzeugt AW 4450 dünne Filme gleichmäßiger und gleichbleibender Dicke auf hocheffiziente Weise. ACCUSPUTTER AW 4450 wird von einem Hochfrequenzgenerator (RF) mit einem Frequenzbereich von 13,56 MHz oder 40 kHz angetrieben. Dies ermöglicht präzises und leistungsstarkes Sputtern, wodurch dünne Filme mit sehr konsistenten Eigenschaften in stark wiederholbarer Weise abgelegt werden können. Weiterhin ist die HF-Leistung einstellbar, wodurch der Anwender die Abscheiderate und die Schichtdicke genau kontrollieren kann. Die AW 4450 ist mit einer Hochvakuumkammer ausgestattet, die 1,3 × 10-4 Pa erreichen kann, einer automatischen Vakuumeinrichtung und einer in die differenzgepumpte Prozesskammer integrierten Turbopumpe. Dies ermöglicht eine genaue und präzise Kontrolle des Sputterbeschichtungsprozesses. Darüber hinaus bietet das System Platz für Probengrößen bis zu 50 mm. Mit seiner HVQ-Polaritätssteuerung kann ACCUSPUTTER AW 4450 auch mehrschichtige Folien mit größerer Genauigkeit und Kontrolle ablegen. Um ein qualitativ hochwertiges Produkt zu gewährleisten, ist AW 4450 mit fortschrittlichen Steuerungs- und Überwachungssystemen ausgestattet. Dazu gehören ein Prozesspotentialmonitor, ein Substrat-Vorspannungsmonitor und ein Plasmapotentialmonitor, die alle in Echtzeit überwacht werden können. Darüber hinaus ist die Einheit mit einem Massenstromregler ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Reinheit des Prozessgases während des gesamten Prozesses auf einem gleichbleibenden Niveau gehalten wird. ACCUSPUTTER AW 4450 ist eine leistungsstarke und hochgenaue Sputtermaschine, die für eine Vielzahl von Sputteranwendungen entwickelt wurde. Durch seine präzise HF-Leistungseinstellung, seine Hochvakuumkammer, seine differentielle Pumpung der Sputterkammer, seine präzisen Steuerungs- und Überwachungssysteme und seine Fähigkeit, Probengrößen von bis zu 50 mm zu handhaben, ist dieses Werkzeug die perfekte Wahl für eine Reihe von industriellen Anwendungen, bei denen Präzision und Wiederholbarkeit unerlässlich sind.
Es liegen noch keine Bewertungen vor