Gebraucht AJA ATC 3400-V #9213688 zu verkaufen

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Hersteller
AJA
Modell
ATC 3400-V
ID: 9213688
Sputtering system Vertically oriented web drive system Web width capacity: 5" Ion surface treatment source QUARTZ Crystal rate monitors PLANAR Magnetron sputter source Dual planar magnetron sputter source (AC and bipolar capable) ADVANCED ENERGY PEII AC Sputter power supply 10 kW SHIMADZU Turbo-molecular vacuum pump ALCATEL Mechanical vacuum pump Dual sputter gases with mass flow controllers PCC Polycold meissner trap: ~1.5 E-07 Torr Linear cathodes: 5" x 15" (2) Bays: Single ended cathode Dual magnetron sputtering. Does not include ADVANCED ENERGY Pinnacle+ pulsed DC sputter power supply.
AJA ATC 3400-V ist eine Hochleistungs-Sputterausrüstung für High-DOI-Dünnschichtanwendungen. Das System nutzt die Elektronenstrahl-Verdampfungstechnologie, um komplexe Aluminiumoxid-Dünnschichten mit hoher Geschwindigkeit effektiv zu sputtern. Es verwendet zwei Hochleistungs-Ionenquellen, die ein gleichmäßiges Plasma mit hoher Dichte erzeugen und überlegene gleichmäßige Abscheidungsraten liefern und eine überlegene und kostengünstige Abscheidungssteuerung bieten. Das Gerät kann vertikal oder horizontal betrieben werden und ist mit Gleichstrom (DC) und Wechselstrom (AC) kompatibel. ATC 3400-V bietet automatisierte Prozessüberwachung und -steuerung sowie fortschrittliche Ionenstrahlanalyse (IBA) -Technologie, die Messungen der elementaren Verteilung und Korngröße sowie die Messung der Korngrößenverteilung innerhalb der Folie ermöglicht. Die Maschine bietet sechs Standard-Zieloptionen für das Sputtern - Al-Ni-Ziel, Al-SiC-Ziel, Ni-C-Ziel, Al-Ta-Ziel, Al-Sn-Ziel und Al-Cu-Ziel. Zusätzlich bietet das Tool eine externe Gasanlage, die das Sputtern von α-Al2O3, β-Al2O3 und TiO2 ermöglicht. Das Modell enthält auch einen Online-Service-Monitor, der Anomalien im Sputterprozess identifizieren und Probleme diagnostizieren kann, bevor sie den dünnen Film beschädigen können. AJA ATC 3400-V hat einen Arbeitsumgebungstemperaturbereich von 4 ° C bis 40 ° C und einen relativen Feuchtigkeitsbereich von 0% -85%. Es bietet zwei beheizte Lastschlösser, die Substrate mit einem Durchmesser von bis zu zwölf Zoll aufnehmen können. Die robuste Konstruktion von ATC 3400-V bietet eine hohe Abscheiderate von bis zu 20 μ m/min und sorgt für eine hohe Serientauglichkeit. AJA ATC 3400-V ist mit Sicherheit konzipiert, mit physischen und elektronischen Sicherheitsfunktionen. Die Ausrüstung umfasst ein Sicherheitsgehäuse und einen E-STOP-Schalter, um das System bei Bedarf schnell und einfach abzuschalten. Darüber hinaus ist das Gerät über ein entferntes Netzwerk steuerbar und sorgt für Sicherheit beim Betrieb der Maschine, ohne sich am gleichen Ort zu befinden. Abschließend ist ATC 3400-V ein leistungsstarkes Sputterwerkzeug, das sich zur Herstellung von Dünnschichten mit hohem DOI eignet. Es bietet einen automatisierten Prozess zur Überwachung und Steuerung der Abscheiderate sowie eine Reihe leistungsfähiger Ionenquellen und Zieloptionen. Es ist auch mit robusten Komponenten für eine hohe Abscheiderate und mit Sicherheitsmerkmalen für Sicherheit entworfen.
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