Gebraucht ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER SCM 650 #9253767 zu verkaufen
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ID: 9253767
Sputtering system
With loadlock
RF/DC Sputtering (with or without bias)
Ionic cleaning
Process gas: Argon, Nitrogen
Stainless steel chamber, 26"
Diameter: 650 mm
Fitted with port-holes and flanges
Port pumping, 6"
(2) Magnetron targets, 8"
Water flow: 15 l/min
Pressure: 6 bar
Compressed air pressure: 6 bar ±0.5
Dry nitrogen pressure: 1.5 bar
Manuals included
Load lock: 6" Substrates
Substrate holder: (4) Stations
(6) Indexed positions
(4) Transfer positions
(2) Sputtering positions
Rotation: 1 to 30 rpm
Vertical translation: 50 mm - 100 mm
One 3/4 automatic shutter
RF Generator: 2000 W
DC Generator: 3000 W
Pump:
Load lock:2012 A Rough rotary vane pump: 15 m³/h
CHAMBER: 2033 A Rough rotary vane pump: 35 m³/h
Secondary: 5402 CP Turbomolecular pump: 380 l/s
INTER-SEAL: 1004 A Rough rotary vane pump: 4.5 m³/h
Measurement:
Load lock: PIRANI PB 122 Rough vacuum
Chamber: PIRANI PB 111 Rough vacuum
BAYARD ALPERT BN 111 Secondary vacuum
BARATRON MN 121 Process vacuum
(2) Gas lines
Machine control : Programmable logic controller
SIEMENS Simatic with an OP 395
CE Marked
Power supply: 380 V, 3 Phase, 18 kVA.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650 ist eine voll ausgestattete, leistungsstarke Sputteranlage, die speziell für industrielle und akademische Produktionsanwendungen entwickelt wurde. ADIXEN SCM 650 bietet das genaue und rentable Spritzen eines großen Angebotes an Metall- und Nichtmetalldünnfilmabsetzungsmaterialien unter der anspruchsvollen Kontrolle seines zuverlässigen PLC-basierten Automationssystems. Diese robuste Sputtereinheit ist die ideale Wahl für kostensensitive Prozesse, insbesondere im Labor- oder Forschungs- und Entwicklungsbereich. Mit einem modularen Magnetron-Sputterverfahren legt ALCATEL SCM 650 Metall-, Legierungs- und nichtmetallische Beschichtungen mit ausgezeichneter Haftung, Gleichmäßigkeit und Schrittabdeckung ab. Seine fortschrittliche Prozesssteuerung ermöglicht qPCR, optische Emissionsspektroskopie und Auger-Kurven sowie Temperatur- und Zeitverbesserungen für eine verbesserte Dünnschichtabscheidung. SCM 650 macht es auch einfach, Feinabstimmung für verschiedene Substratanwendungen zu implementieren. Die große Pumpkammer von PFEIFFER SCM 650 besteht aus hochwertigen Baumaterialien und verfügt über ein motorisiertes Tor zum Zugang zur Bearbeitungskammer, wodurch das Hinzufügen oder Entfernen von Substraten erleichtert wird. Es kommt auch mit einem geschweißten O-Ring für die Tür, um eine leckagefreie Umgebung zu gewährleisten. Die Maschine kann über einen Webbrowser fernüberwacht und bedient werden, sodass Anwender auf wichtige Werkzeuginformationen sowie die Echtzeit-Prozesssteuerung und -datenüberwachung zugreifen können. ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650 ist mit aktiver Gassteuerung ausgestattet, einschließlich einer hochkompressiven Argonanlage, die auf der Rückseite des Modells montiert ist. Es hat auch eine Reinigungsöffnung, um den Heliumverbrauch zu minimieren. Das vielseitige Design von ADIXEN SCM 650 ermöglicht es Anwendern, ihren Dünnschichtbeschichtungsprozess einfach für verschiedene Anwendungen anzupassen. Beispielsweise ist eine Doppelfarbkonfiguration leicht erreichbar, indem zwei Sputterziele mit derselben Magnetronquelle verbunden werden, und verschiedene andere Konfigurationen sind durch ihre Vielzahl von Installationsoptionen erreichbar. Die robuste Konstruktion von ALCATEL SCM 650 wird getestet, um sicherzustellen, dass es mit maximaler Effizienz und Haltbarkeit auch in den anspruchsvollsten Umgebungen läuft. Es enthält auch eine Reihe von Sicherheitsfunktionen wie Verriegelungen und Alarme, die maximalen Schutz für Benutzer und die Ausrüstung als Ganzes bieten. Abschließend ist SCM 650 ein zuverlässiges, benutzerfreundliches Sputtersystem, das eine unübertroffene Leistung und Zuverlässigkeit bietet. Es ist die perfekte Lösung für industrielle und akademische Produktionsanwendungen, die präzise und kostengünstige Dünnschichtabscheidungsprozesse erfordern.
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