Gebraucht ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER SCM 650 #9258696 zu verkaufen

ID: 9258696
Sputtering system RF/DC Sputtering Ionic cleaning Cathodes: (2) Magnetron targets, 8" Substrate transport load lock: 6" Diameter substrates Substrate holder: (4) Stations (6) Indexed positions (4) Transfers with (2) sputtering positions Rotation: 1 to 30 RPM Vertical translation: 50 to 100 mm Shutter: 1 3/4 Automatic shutter Generators: RF Generator: 2000W For the targets 1 and 2 and substrate holder DC Generator: 3000W For the targets 1 and 2 (2) Gas lines.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650 ist eine fortschrittliche, voll funktionsfähige Sputterausrüstung mit variabler Hochspannungsversorgung und robusten Steuerungen, um einen genauen Abscheidungsprozess zu erzielen und aufrechtzuerhalten. Dieses hochmoderne PVD-System ist für die industrielle Abscheidung von dünnen Schichten ausgelegt, die sich ideal für optische Beschichtungen und magnetische Datenspeicheranwendungen eignen. ADIXEN SCM 650 besteht aus einem effizienten Hochspannungsnetzteil, einem präzisen Magnetfilter und einer Sputterkammer in voller Größe. Die Kammer ist für ein optimales Wärmemanagement ausgelegt und enthält ein starkes gleichmäßiges Magnetfeld für eine extrem genaue Dünnschichtabscheidung. Das hocheffiziente Hochspannungsnetzteil liefert leistungsstarke, präzise, konsistente Leistung für die Vakuumabscheidung von dünnen Filmen. Das Netzteil kann bis 2.5kV mit hohen Spannungen betrieben werden und liefert Sputterleistung von 0.5kW nach 20kW (Clustered Configuration). Die Stromversorgung ermöglicht auch die Variation der Leistung mit zeitlich und temperaturnivellierten Regelkurven. Der präzise Magnetfilter von ALCATEL SCM 650 hilft, den gleichmäßigen Sputterprozess durch Herausfiltern von Verunreinigungen in der Atmosphäre zu gewährleisten. Das Magnetfilter hält auch die Homogenität der Filmabscheidung aufrecht, wodurch gleichmäßige dünne Filme auf dem Substrat entstehen. PFEIFFER SCM 650 ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um die Gleichmäßigkeit und Prozesskontrolle zu maximieren. Es weist eine interne Wafer-Überwachungseinheit, eine präzise Schaltmaschine, einen Temperaturregler und einen Sauerstoffmonitor auf. Es bietet auch fortschrittliche Plasmasteuerungssysteme wie ein Mehrzonen-Gasverteilungswerkzeug und einen Dual-Gas-Injektor. Die Gaseinspritzeinrichtung ermöglicht eine präzise Steuerung des Gasstroms und der Temperaturregelung mit der temperaturgesteuerten Anode und Kathode. SCM 650 ist ein ideales Modell für die hochgenaue Dünnschichtabscheidung für Anwendungen wie optische Dünnschichtbeschichtungen und magnetische Datenspeichermedien. Es bietet ein konsistentes, präzises, hocheffizientes Sputtern für eine gleichmäßige und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung. Die voll integrierte Ausrüstung bietet eine effektive und präzise Steuerung für einen zuverlässigen und präzisen Prozess.
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