Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9018803 zu verkaufen

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ID: 9018803
Weinlese: 2006
System Application: Coating method: MF Twin Mag Sputtering Coating direction: sputter down Coating influenced by gases Electrical connection 3 phase, PE, N, AC 400 V, 50 Hz, Full-load-current: 986 A Cycle time per carrier M01: ca. 60 sec. Brut capacity (at 100% uptime): Aton: max. 5400 Wafer / h Targets: Silicon M06 - Planar Twin Mag Cathode M08 - Rotatable Twin VAC - Mag Cathode Gas: Ar - argon, N2 - nitrogen, NH3 - ammonia Compressed air: pressure: 6 bar - 8 bar Wafer: 150 mm x 80 mm Carrier material: Carbon (CFC) 1800 mm x 920 mm, 90 Wafer / Carrier Loader / Unloader / Carrier transport system: Jonas & Redmann Retrofit: upgraded lock valve in 2008, upgraded cathode M08 to rotatable in 2011 Flooded with N2 Cooling water: emptied 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 Sputteranlagen sind ein leistungsstarkes, vielseitiges System zur Beschichtung von dünnen Schichten auf Substraten. Es verwendet eine Kombination aus physikalischen und chemischen Aufdampfverfahren, um dünne Schichten aus metallischen, dielektrischen und Halbleitermaterialien auf Wafer, Substrate und andere Komponenten aufzubringen. Es ist für die Serienproduktion und Forschung konzipiert, mit einer Vielzahl von Optionen für die Anpassung und Flexibilität. AMAT ATON 1600 hat eine Kammer mit einer maximalen Größe von 600mm x 600mm x 250mm und kann bis zu 30 Wafer aufnehmen. Es verfügt über Auto-Kammerreinigung und Wafer-Handling-Vorrichtungen, die an die Bedürfnisse des Jobs anpassen. Es verfügt über einen 8 "-Plasmagenerator, der Plasmaleistung bis 2000W erzeugen kann und bietet entweder Single- oder Multi-Target-Sputtering mit mehreren Elektrodenkonfigurationen. Es kommt auch mit einem Filmmonitor, Widerstandsmonitor und Wafer Temperatursensoren konfiguriert. Durch den Zusatz eines Load Lock kann das Gerät während der Abklingphase ununterbrochen arbeiten und verkürzt die Zykluszeiten insgesamt. Die Maschine kann für konventionelles physikalisches Sputtern, Nano-Coating, reaktives Sputtern, Blattwiderstand und Overlay verwendet werden. Seine Leistung und Flexibilität machen es für viele Anwendungen wie Halbleiter, MEMS, metallisierte Keramik und IR-Linsen geeignet. Das Tool verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, eine automatisierte Prozesssteuerung, einen Elektronenstrahlmesser und kann von einem Ort aus fernüberwacht und bedient werden. Erweiterte Prozesssteuerungsoptionen umfassen Rezeptprogrammierung, Prozessparameteroptimierung sowie Echtzeit-Feedback und Audit. Das Modell ist auch in der Lage, Diagnosen und Ad-hoc-Experimente. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS ATON 1600 Sputterausrüstung ein fortschrittliches, leistungsstarkes Werkzeug zur Beschichtung von dünnen Schichten auf Substraten. Sein flexibles Design und seine fortschrittlichen Funktionen machen es ideal für Serien- und Forschungsanwendungen. Das System ist so konzipiert, dass es effizient, präzise und zuverlässig ist, sodass Anwender die Qualität und Ausbeute ihrer Dünnschichtbeschichtungen maximieren können.
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