Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9248312 zu verkaufen
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ID: 9248312
Sputtering system
Process chambers:
(2) Planar chambers
(2) Rotary chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 Sputterausrüstung ist ein hochentwickeltes vielseitiges Werkzeug für physikalische Dampfabscheidung (PVD) und chemische Dampfabscheidung (CVD). AMAT ATON 1600 verwendet ein ultrahoches Vakuum, modernste Technologien und fortschrittliche Materialien und Verfahren, um die höchste Abscheidungsgleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit zu erreichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN ATON 1600 ermöglicht es Benutzern, zwei oder mehr Zielmaterialien gleichzeitig auf mehrere Substrate zu sputtern. Jeder Prozess wird unabhängig über ein proprietäres System gesteuert, so dass Benutzer individuelle Prozessparameter wie Kammerdruck, Zielleistung, Substrattemperatur und Gasdurchflussraten steuern können. Darüber hinaus ermöglicht ATON 1600 automatisierte Zyklusereignisse zwischen Abscheidung und Zyklen, so dass Benutzer genau steuern können, wie das Material vorbereitet, abgelegt und gehärtet wird. AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 verwertet auch eine fortgeschrittene Ionsbalkenoberflächenvorbehandlungstechnologie für anorganische Materialien und diamantähnliche Filme. Bei dieser innovativen Technik wird ein Substrat (oder ein separates Stück Substratmaterial) mit einem energetischen Ionenstrahl beschossen. Dadurch wird das Material atomar amorph und hochreaktiv. Durch Sputtern oder plasmaunterstützte Abscheidung mit AMAT ATON 1600 können dann atomar saubere Oberflächen gebildet werden. Durch dieses energiereiche Sputtern sowie das niederenergetische reaktive Ionenätzen kann eine ultrafeine Dickengleichmäßigkeit und eine verbesserte Stufendeckung mit hoher Präzision erreicht werden. Mit diesen aberrationsfreien Abscheidungstechniken ermöglicht APPLIED MATERIALS ATON 1600 Anwendern, auch auf schwierigen Substraten extrem gleichmäßige Folien zu erzeugen. ATON 1600 verfügt außerdem über eine einzigartige Dual-Load-Lock-Konfiguration, die eine schnelle und einfache Beladung der Einheit ermöglicht und gleichzeitig eine konstante Vakuumintegrität und einen hohen Durchsatz bietet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine fortschrittliche, automatisierte plasmaunterstützte hochdichte Plasmaquelle für hochpräzise Ätzprozesse. AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 ist auch mit einem integrierten Aktuator ausgestattet, der eine direkte Steuerung der Substratdrehung und -positionierung während der Abscheidung ermöglicht. AMAT ATON 1600 ist ein ideales Werkzeug für Anwendungen wie optische Dünnschichtabscheidung, Festplatten-Speichermedien, Präzisionsabscheidung, Dichtring-Abscheidung, Mehrschichtstapel und mehr. Durch die Verwendung der revolutionären Technologien und Verfahren, die mit APPLIED MATERIALS ATON 1600 zur Verfügung stehen, sind Anwender in der Lage, überlegene Dünnschichtabscheidungsergebnisse zu erstellen, die sehr gleichmäßig sind und eine ausgezeichnete Schrittabdeckung aufweisen.
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