Gebraucht ANATECH Hummer 10.2 #9221457 zu verkaufen

ANATECH Hummer 10.2 ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung zur Abscheidung dünner Materialschichten auf einem Substrat. Das System ist in der Lage, gleichmäßige Filme aus Metallen, Legierungen, Oxiden und Nitriden mit überlegener Haftung und Anstiegs-/Abfallzeiten herzustellen. Darüber hinaus bietet es eine hervorragende Flexibilität und Steuerung über seine benutzerfreundliche Touchscreen-Schnittstelle, die eine einfache Abscheideparameteroptimierung ermöglicht. Der Hummer 10.2 verwendet einen gepulsten DC-Sputterprozess, der ein kontrolliertes Dünnschichtwachstum gewährleistet und die Substratladung praktisch eliminiert. Sein 10 „x4“ Sputterbereich ermöglicht die großflächige Abscheidung mehrerer Schichten. Das Kammerdesign umfasst eine Mehrzonengleichförmigkeitseinheit, die eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung an jeder Stelle auf dem Substrat ermöglicht. Die Kammer weist außerdem eine Reihe von Ein- und Auslaßventilen für die Evakuierungs- und Plasmasteuerungsprozesse sowie eine Substratheizung zur präzisen Temperaturregelung auf. Die Maschine ist mit einem Gasventil-Array mit einfach zu bedienender manueller und automatischer Durchflussregelung ausgestattet, so dass Benutzer zwischen Gas- und Vakuumbetrieb wechseln können. Ein Drucksensor ermöglicht es Benutzern, den Kammerdruck zu überwachen und Werkzeugstörungen schnell zu erkennen. Der Hummer 10.2 kommt auch mit einer Vielzahl von Schutzvorrichtungen, einschließlich thermisch isolierte Abschirmungen, um Substrate vor dem Sputterprozess und magnetische Abschirmungen für die Gleichmäßigkeitskontrolle geschützt zu halten. Der Hummer 10.2 ist pflegeleicht und verfügt über verschiedene Sicherheitsmaßnahmen. Dazu gehört ein Interlock-Asset, um das Modell im Falle eines Fehlers, Überdrucks oder Niederdruckauftretens automatisch herunterzufahren. Das kompakte, einheitliche Design ermöglicht eine einfache Feldinstallation und -wartung. Insgesamt ist ANATECH Hummer 10.2 ein hervorragendes Sputtersystem für eine Vielzahl von Anwendungen in der Materialforschung. Die einstellbare Substratheizung, der Gasfluss und die Drucksteuerung bieten Benutzern eine präzise Kontrolle über die Dünnschichtabscheidung. Seine große Sputterfläche und Gleichmäßigkeitsfähigkeit bedeuten, dass es in der Lage ist, qualitativ hochwertige dünne Filme auf einer Reihe von Substraten zu produzieren. Das Gerät bietet eine präzise Steuerung in einem benutzerfreundlichen und pflegeleichten Paket.