Gebraucht ANATECH / TECHNICS RF-2C #9213270 zu verkaufen

ANATECH / TECHNICS RF-2C
ID: 9213270
Wafergröße: 4"
Sputter system, 4" For R&D.
ANATECH/TECHNICS RF-2C ist eine Mittelvakuum-Sputteranlage, die speziell für die Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten entwickelt wurde. Es dient zur präzisen Abscheidung von Metallen, Keramik- und Verbundwerkstoffen mit Hilfe einer Vakuumkammer. ANATECH RF-2C Sputtersystem wird hauptsächlich in der Forschung, Dünnschichtabscheidung, Oberflächentechnik und Herstellung elektronischer Bauteile eingesetzt. TECHNICS nutzt RF-2C Hochfrequenzleistung (RF) aus einer Reihe von In-Vakuum erzeugenden Modulen, um ein starkes Magnetfeld zu erzeugen. Dieser hocheffiziente und kostengünstige Sputterprozess nutzt eine hohe Frequenz, um die Energieniveaus der Ionen im Plasmagas zu erhöhen und zur Zieloberfläche hin zu beschleunigen, was zu einer gleichmäßigen Abscheidung von dünnen Schichten führt. Da es kein hohes Vakuum erfordert, benötigt RF-2C weniger als ein Drittel der Energie anderer Sputtersysteme. Das Gerät ist mit drei Magnetronen ausgestattet: einem einzigen und zwei Doppelmagnetronen, die Titan-Target und ein Oerlikon-Magnetron umfassen. Verschiedene weitere Substrathalter, Prozessmonitore und Sensoreinrichtungen sind ebenfalls in ANATECH/TECHNICS RF-2C enthalten. Die Maschine ist in der Lage, verschiedene Arten und Größen von Substraten und Zielen unterzubringen. Die Komponenten wie das Oerlikon-Magnetron können an spezifische Anwendungsanforderungen angepasst werden. Um eine präzise Steuerung des Gasflusses und der Abscheidungsparameter zu gewährleisten, ist das Werkzeug mit einer Vakuumkammer mit integriertem Digitaldruck, druckfesten Keramikstäben, einem Massendurchflussmesser und einer Gasmischplatte ausgestattet. ANATECH RF-2C ist zudem mit programmierbaren Systemen zur Strom-, Temperatur- und Leistungsregelung ausgestattet, mit denen Anwender die Prozessparameter einfach überwachen und steuern können. Das hochmoderne TECHNICS RF-2C Asset wurde entwickelt, um die Effizienz und Genauigkeit der Dünnschichtabscheidung zu maximieren. Seine hervorragenden Kontrollfunktionen gewährleisten eine gleichmäßige Abscheidung von dünnen Folien, ohne die Qualität oder Langlebigkeit zu beeinträchtigen. RF-2C ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Sputtermodell, perfekt für Forschung und andere kommerzielle Anwendungen.
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