Gebraucht BALZERS 810 #293650477 zu verkaufen

BALZERS 810 ist eine Sputteranlage, die mittels Hochfrequenzplasmasputtern dünne Filme aus Metallen, Legierungen und Verbindungen durch thermische Verdampfung oder Sputtern herstellt. Das System besteht aus einer Vielzahl von Komponenten, darunter eine Ionenquelle, eine Waferstufe, eine Abscheidekammer, HF-Netzteile, eine Substrathalterung, eine Evakuierungspumpe und eine Prozesssteuerung. Die Ionenquelle wird verwendet, um das Plasma zu erzeugen, das benötigt wird, um das Zielmaterial zu sputtern. Die Ionenquelle ist in der Regel eine elektrostatische, heiße Elektronen- oder hochdichte Plasmaquelle, je nach Anwendungsfall. Die Waferstufe der Einheit dient zum Halten des Substrats während des Abscheidungsprozesses. Diese Stufe besteht typischerweise aus einem vakuumdichten Waferhalter, der zur dreidimensionalen Bewegung des Substrats für eine verbesserte Abscheidungsgleichmäßigkeit programmierbar ist. Die Abscheidekammer ist dort, wo der Sputtervorgang stattfindet. Diese Kammer ist typischerweise aus Aluminium und Edelstahl gefertigt, mit einer vakuumdichten Dichtung und ist mit einem Viewport ausgestattet, um eine visuelle Inspektion des Abscheideprozesses zu ermöglichen. Die Kammer beherbergt die Ionenquelle und die Substratstufe und ist auch mit einer Abgasmaschine zur Evakuierung der Prozessgase ausgestattet. Die HF-Netzteile dienen zur Versorgung der zum Sputtern benötigten elektrischen Energie. Diese Netzteile bieten normalerweise bis zu 1000 Watt Leistung und eine variable Pulsfrequenz, sodass das Prozessfenster für jede Anwendung optimiert werden kann. Der Substrathalter des Werkzeugs dient zum Halten des Substrats während des Sputtervorgangs und ist typischerweise aus Edelstahl aufgebaut. Dieser Halter kann programmierbar positioniert werden, um eine verbesserte Ablagerungsgleichmäßigkeit zu ermöglichen. Die Evakuierungspumpe der Anlage wird verwendet, um einen niedrigen Druck während des Sputtervorgangs aufrechtzuerhalten und besteht typischerweise aus einer Turbo- oder Spiralpumpe. Der Prozessregler dient zur Steuerung der Prozessparameter, einschließlich Temperatur, Druck, Leistung und Abscheiderate. Dieser Regler kann so programmiert werden, dass er eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses ermöglicht, was eine verbesserte Abscheidegleichmäßigkeit ermöglicht. Insgesamt ist 810 ein hochentwickeltes Sputtermodell, das verwendet werden kann, um eine breite Palette von Materialien für verschiedene Anwendungen abzulegen. Dieses Gerät eignet sich ideal für Forschungsanwendungen und eignet sich besonders für die Herstellung von ultradünnen Metall- und Legierungsschichten. Der Sputterprozess kann zur gleichmäßigen Abscheidung hochwertiger Dünnschichten exakt gesteuert werden.