Gebraucht CANON / ANELVA C-7100GT #9188155 zu verkaufen

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ID: 9188155
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
PVD Gate metal deposition system, 12" CANON / ANELVA MDX400 Tandem core Software version: 100902 Upgraded on 2009 Hardware configuration (Fab): Main system: Equipment front end module (EFEM) Quadro load lock (2) Transfer chambers Pass chamber (with wafer aligner) FOUP System: (2) RORZE Load ports Handler system: Transfer robot double end-effector (EFEM) (2) Wafer handling units dual-arm (Transfer chamber) ATM Wafer aligner (EFEM) VAC Wafer aligner (Pass chamber) Process chamber: (3) PVD PCM-X Chambers (2) PVD 2PVD-EX Chambers PVD 4/5PVD-EX Chamber Gas heat chamber Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units): (4) Power distribution racks Compressor rack with cryo compressor Control rack for core (2) Control racks for (2) PVD-EX Control rack for 4/5 PVD-EX (3) Control racks for PCM-X Control rack for gas heat EES Rack (3) Chillers 2007 vintage.
CANON/ANELVA C-7100GT ist eine kompakte, leistungsstarke Sputterausrüstung für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Das System verfügt über einen hochgeschwindigen, präzisionsgesteuerten DC-Magnetron-Sputterablagerer, der für eine Vielzahl von Ablagerungen verwendet werden kann. Die Sputtereinheit wurde entwickelt, um eine optimale Abscheidegeschwindigkeit und überlegene Substratqualität für eine fortschrittliche Dünnschichtverarbeitung bereitzustellen. Es ist in der Lage, präzise, homogene Schichten auf großen Substraten mit präziser Kontrolle über Schichtdicke und Zusammensetzung zu schaffen. Die Hauptkomponenten von CANON C-7100GT sind eine Quelle, ein Substrathalter, eine Drehsputterkammer, eine Vakuummaschine, ein Stromaggregat, eine Ladekammer und ein Regler. Die Quelle besteht aus einem oder mehreren Magnetronen mit einer Vielzahl von Kathodenmaterialien, die zur Erzeugung der dünnen Materialschichten verwendet werden. Der Substrathalter ist in der Lage, große Substrate von bis zu 300 mm Durchmesser zu handhaben und hat die Fähigkeit, die Probe zu drehen und zu neigen. Die Rotationssputterkammer dreht das Substrat, um eine gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. Das Vakuumwerkzeug erhält die Arbeitsumgebung und entfernt die Reaktionsprodukte. Die Lastsperrkammer lindert die Schwankungen des Arbeitskammerdrucks und der Temperatur. Schließlich ist die Steuerung für die Stromversorgung, die Parameter der Reaktion und die Überwachung des Sputtervorgangs verantwortlich. ANELVA C-7100GT eignet sich für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen wie optische Beschichtungen, reflektierende Beschichtungen, antireflektierende Beschichtungen, Oberflächenschutzbeschichtung, nanostrukturierte Beschichtung, Metallschichtabscheidung und Verkapselung. Es ist in der Lage, mit verschiedenen Arten von Werkstückmaterial wie Polymer-, Metall-, Keramik- und Verbundwerkstoffen zu arbeiten. Es bietet eine präzise Abscheidungssteuerung mit Variationen von bis zu 0,2 nm Filmdicke. Die Anlage ist für hohe Durchsätze ausgelegt, um eine einfache Vorbereitung und flexiblen Betrieb zu gewährleisten. C-7100GT ist ein zuverlässiges und langlebiges Modell mit langer Lebensdauer und geringem Wartungsaufwand. Es verfügt über eine Sicherheitsausrüstung, die integrierte Nothaltestellen und Sicherheitsfunktionen umfasst, die den Bediener, die Komponenten und die Umwelt schützen. Das System ist auf die Einhaltung anerkannter Sicherheitsstandards und -vorschriften ausgelegt und bietet verschiedene Optionen zur Fernsteuerung und -überwachung. Darüber hinaus bietet das Gerät eine präzise und genaue Prozessoptimierung und Datenerfassung, die es Anwendern ermöglicht, die Ergebnisse des Dünnschichtabscheidungsprozesses zu überwachen und zu analysieren.
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