Gebraucht CANON / ANELVA EVC-1501 #9031250 zu verkaufen

CANON/ANELVA EVC-1501 ist eine Hochvakuum-Sputter-Abscheidung, die verwendet wird, um hochwertige, gleichmäßig verteilte dünne Filme auf der Oberfläche eines Substrats abzuscheiden. Es ist für sehr anspruchsvolle Industrie- und Forschungsanwendungen wie gedruckte Elektronik und OLED-Displays konzipiert. Das System ist mit einer Lastschloßkammer ausgestattet, die während des Prozesses eine Niederdruckumgebung bereitstellt und den Sputtervorgang unter kontrollierten Bedingungen ermöglicht. CANON EVC-1501 kann sowohl im planaren als auch im rotatorischen Sputtermodus arbeiten und ist sowohl zum Ein- als auch zum Mehrzielsputtern in der Lage. Das Gerät verfügt über eine Mehrzonen-Prozesskammer, genannt Variable Control Zone (VCZ), die es dem Benutzer ermöglicht, die Intensität und Gleichmäßigkeit der erzeugten Beschichtung zu steuern. Der VCZ ist in der Lage, die Position des Substrats relativ zum Ziel zu verschieben, so dass der Sputterprozess entsprechend den Benutzeranforderungen angepasst werden kann. Die Maschine ist mit einer Hochkraft-DC-Magnetron-Sputterquelle ausgestattet, die Dünnschichtbeschichtungen mit überlegener Haftung und Gleichmäßigkeit erzeugen kann. Es hat eine längere Lebensdauer aufgrund seiner niedrig intersputternden Konstruktion und ist in der Lage, mit hohen Abscheidegeschwindigkeiten zu arbeiten. Das Werkzeug verfügt über einen 2.4kW HF-Leistungsverstärker zum Sputtern, mit einem einstellbaren Leistungsbereich von 30-150 V. Es ist auch mit einem variablen Frequenzgenerator für erhöhte Präzision und Kontrolle über den Sputterprozess ausgestattet. Die Anlage wird auch mit automatischer Gassteuerung geliefert, die eine genaue Kontrolle über den Abscheidungsgasfluss ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Modell über einen Shuttle-Träger, mit dem Substrate schnell und einfach übertragen werden können. Es ist auch mit einer computergesteuerten Ausrüstung ausgestattet, die einfachen Zugriff auf die Software, das Netzwerk und die Peripheriesteuerung bietet. Das System hat auch eine Stickstoffreinigungsfunktion, die eine ordnungsgemäße Nachsputterreinigung der Kammer gewährleistet. Abschließend stellt ANELVA EVC-1501 eine kostengünstige und zuverlässige Lösung zum Sputtern von Dünnschichten auf Substraten für industrielle und Forschungsanwendungen dar. Es unterscheidet sich von typischen Sputtersystemen durch seine beeindruckende Last-Lock-Kammer, variable Regelzone, verstellbaren Leistungsverstärker, automatische Gassteuerung, Shuttle-Träger und Computer-Steuereinheit. All diese Merkmale führen zu einer kostengünstigen, leistungsstarken Sputtermaschine, die den Anforderungen der heutigen anspruchsvollen Forschungs- und industriellen Sputteranforderungen gerecht wird.