Gebraucht CANON / ANELVA EVC-1501 #9048865 zu verkaufen

CANON/ANELVA EVC-1501 ist eine fortschrittliche, hochpräzise Sputterausrüstung, die eine präzise Metall- oder dielektrische Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Es nutzt fortschrittliche Funktionen wie eine verbesserte Abscheiderate und Qualität, dank einer Schichtdicke von Submikron, die für elektronische, optoelektronische und MEMS-Anwendungen verwendet wird. Dieses Sputtersystem verwendet eine Elektronenstrahlpistole zur Massenneutralisierung und eine elektromagnetische Umgebungssteuereinheit (EMEC), die ihre Schichtdicken-Konsistenz von Submikron ermöglicht. Die Abscheiderate ist hoch, mit einem stationären Arbeitsdruck um 0,1 mBar bis 1 mBar und einem maximalen Zielstrom von 150 mA. Darüber hinaus ist die Isolationsspannung von 0 bis 150 V einstellbar, so dass Sie die Dicke und Gleichmäßigkeit der Beschichtung nach Bedarf einstellen können. Weiterhin kann die Abscheidung in reaktiven oder nicht-reaktiven Atmosphären mit einer Kapazität von bis zu 15 Einheiten Raumtemperaturbetrieb durchgeführt werden. Die Maschine kommt auch mit dem Hochleistungshochvakuum turbomolekulare Pumpe, die eine schnelle, effiziente Evakuierungsrate dem Betriebsraum bietet. Darüber hinaus verfügt das Tool über einen fortschrittlichen Partikelmonitor und einen Pump-down-Monitor, der eine hohe Kontrolle über den Evakuierungsprozess bietet. Dies hilft bei der genauen und zuverlässigen Abscheidung. CANON EVC-1501 verfügt auch über einen Hochfrequenz-Ausgangsimpulsgenerator, der es dem Benutzer ermöglicht, schnelles Pulssputtern zu implementieren. Darüber hinaus ermöglicht es dem Anwender, verschiedene Musterkontrollmöglichkeiten wie Oxid-Nitrid-Dünnschichtabscheidung, Korngrößenkontrolle und dielektrische Eigenschaftenkontrolle zu nutzen. Insgesamt ist ANELVA EVC-1501 Sputteranlage ein fortschrittliches und präzises Sputtermodell für die Abscheidung von Metall- oder dielektrischen Dünnschichten. Es verfügt über eine Reihe von fortschrittlichen Funktionen für eine verbesserte Abscheidungsrate und Qualität wie eine verbesserte Schichtdicke von Submikron-Schichten, eine einstellbare Isolationsspannung und eine hochwertige Vakuum-Turbomolekularpumpe für eine effiziente Evakuierung. Darüber hinaus können eine Reihe von Eigenschaften aufgebracht werden, die eine hohe Schichtgleichmäßigkeit und ein breites Anwendungsspektrum ermöglichen.