Gebraucht CANON / ANELVA I-1060 SVII Plus 1 #9120224 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9120224
Weinlese: 1996
System
Configuration:
L1 Etch chamber
Turbo pump: Osaka TG-550
RF: WMA-1, double frequency
L2 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-870D
L3 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-609
R3 Deposition chamber
Cryo pump: CAP83R
DC Power: PDC-307E
R2 Despostion chamber
Cryo pmp: CAP83R
DC Power: PDC-307E
R1 Degas chamber
Lamp heater: 400°C
L/L Left chamber
Cryo pump: CAP83R
L/L Right chamber
Cryo pump: CAP83R
Includes:
Edwards dry iQDP80
Cryo compressor CRC 874
Main control rack
operation rack
RF Generator rack
DC Power supply rack
UPS PS1203
PVD Rack
1996 vintage.
CANON/ANELVA I-1060 SVII Plus 1 ist eine hochmoderne Mehrzweck-Sputteranlage, die sowohl physikalische als auch chemische Sputterprozesse durchführt. Dieses Hochleistungs-Sputtersystem ist in der Lage, eine Vielzahl von Anwendungen für Materialien wie dünne Folien, Mehrschichten und Verbundwerkstoffe zu produzieren. Es ist ideal für den Einsatz in Branchen, die Präzisionssputtern erfordern, wie MEMS (Micro-Electro Mechanical Systems) Anwendungen, Halbleiter, Sensoren und Optoelektronik. Das Gerät verwendet eine Mittelfrequenz-Stromversorgung (MFPV), die entwickelt wurde, um die Maschinengröße zu reduzieren und gleichzeitig die höchstmögliche Mikrowellenleistung zu erhalten. Dies ermöglicht die Gleichmäßigkeit des Zerstäubungsprozesses auch bei hohen Zerstäubungsraten. CANON I-1060SVII PLUS-1 besteht aus einem oben montierten Hauptwerkzeug (einschließlich Quelle, Schalter und Kammer) und einer ergonomisch gestalteten Bedienerkonsole. Es hat auch einen am Boden montierten Magnetron-Sputterkopf und -quelle sowie abgestimmte unabhängige Sputterquellen- und Zielbaugruppen. Darüber hinaus bietet das Asset bahnbrechende Mess- und Steuerungsfunktionen wie automatisches Power-Feedback, Digimatic Control, Hochgeschwindigkeits-Prozesssteuerung und ein Datenlogging-Modell. Dies gewährleistet eine präzise Steuerung der Sputterabscheideraten sowie die Aufzeichnungsfähigkeit von Informationen zur Prozessoptimierung und zur Verbesserung der Prozessfähigkeit. Der Sputterkopf und die Quelle sind so konzipiert, dass sie bei vielen Anwendungen die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit maximieren. Es ist in der Lage, extrem kleine Sputterpartikelgrößen zu produzieren, so dass es in der Lage ist, einheitliche nanostrukturierte dünne Filme zu produzieren - ein großer Vorteil für fortschrittliche Elektronik, Sensoren und MEMS-Produkte. Die Ausrüstung bietet außergewöhnliche Flexibilität, um eine Vielzahl von Sputterprozessanforderungen zu erfüllen, mit der Fähigkeit, jede Anwendung anzupassen. Dazu gehören automatischer Zielaustausch, Sputtern mit zwei Quellen, Herunterfahren und Wiederaufnehmen sowie Düsenreinigungsvorgänge, um die höchste Produktivität und Zuverlässigkeit des Systems zu gewährleisten. ANELVA I-1060 SVII PLUS-1 verfügt über alle Funktionen, die für höchsten Durchsatz, Präzision und Zuverlässigkeit bei der Oberflächenbearbeitung erforderlich sind.
Es liegen noch keine Bewertungen vor