Gebraucht CANON / ANELVA I-1060 #9148536 zu verkaufen

CANON/ANELVA I-1060 ist eine hochpräzise Sputteranlage, die vor allem zur Dünnschichtabscheidung bei der Herstellung von Halbleiter- und verwandten Produkten eingesetzt wird. Das System wurde entwickelt, um eine gleichmäßige und reproduzierbare Dünnschichtabscheidung auf einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Halbleiterscheiben, Glas und anderen Materialien, bereitzustellen. Die Einheit besteht aus einer Vakuum-Sockelkammer, in der der Substrathalter und die Sputterquellen und Targets untergebracht sind. Die Vakuummaschine ist mit einer Gasleitung verbunden, die ein in die Kammer eingeleitetes Reaktivgas bereitstellt. Um ein gutes Ziel für die Waferabdeckung zu erreichen, wurde CANON I-1060 entwickelt, um magnetisches Sputtern durchzuführen. Das Werkzeug ist mit einer variablen Stromversorgung ausgestattet, die die Magnetronsputterquelle mit kontrollierter Energie versorgt. Die Anlage verwendet auch schrittweise motorgetriebene XY-Stufe, um eine genaue und präzise Bewegung des Probenhalters für eine gleichmäßige Beschichtung des gesamten Wafers zu gewährleisten. Darüber hinaus ist ANELVA I-1060 auch mit einer Hochlagevorrichtung ausgestattet, die die individuelle Ionisation des Materials auf dem Substrat misst und eine gleichmäßige Dicke des Dünnfilms gewährleistet. Zur Messung der Eigenschaften des Dünnfilms ist das Modell zusätzlich mit einem Spektrometer und/oder einem Ellipsometer zur Analyse der Materialeigenschaften an verschiedenen Stellen des Wafers ausgestattet. Darüber hinaus ist die Ausrüstung für eine einfache Wartung ausgelegt und mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet. Dazu gehören Funktionen, die dazu beitragen, die Sicherheit des Bedieners und der Umwelt zu gewährleisten. Das System umfasst auch eine automatisierte Fehlerdiagnoseeinheit zur Erkennung und Fehlerbehebung von potenziellen Problemen. Insgesamt ist I-1060 eine gut konstruierte Sputtermaschine, die konsistente, gleichmäßige Dünnschichtabscheidung für eine Vielzahl von Substraten liefert, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Das Werkzeug umfasst eine Vielzahl von Merkmalen, um eine gleichmäßige Beschichtung des gesamten Wafers zu gewährleisten sowie die Eigenschaften des Dünnfilms zu analysieren. Es enthält auch eine Vielzahl von Sicherheits- und Wartungsfunktionen, um einen sicheren Betrieb und eine optimale Leistung zu gewährleisten.