Gebraucht CANON / ANELVA ILC-1012 Mark II #9269327 zu verkaufen

CANON / ANELVA ILC-1012 Mark II
ID: 9269327
Wafergröße: 4"-5"
Sputtering systems, 4"-5".
CANON/ANELVA ILC-1012 Mark II ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung für eine Vielzahl von Dünnschichtbeschichtungsanwendungen. Das System besteht aus einer Sputterkathode, einer plasmaerzeugenden Stromversorgung, einer Gasversorgung und einem Drehtisch. Im Kern weist die Einheit eine induktiv gekoppelte Plasmaspule (ICP) zur Erzeugung eines hochdichten Plasmas auf, das für einen effizienten Ionenbeschuss im Sputterprozess wesentlich ist. Die ICP-Spule erzeugt Plasmen verschiedener Edelgase wie Argon mit Leistungsdichten von bis zu 5,8 kW/cm2. Dies ermöglicht eine Vielzahl von Sputteranwendungen, insbesondere für Hochtemperaturbeschichtungen wie Gold und Iridium. Die Maschine wurde entwickelt, um das physikalische Phänomen des Magnetronsputterns zu nutzen, bei dem ein hinter der Sputterkathode angeordneter Magnet die aus dem Zielmaterial freigesetzten Partikel am Substrat niedriger hält und die Beschichtungseffizienz erhöht. Es verfügt über ein 13,1 cm Durchmesser rechteckiges Target, das bis zu 10 kg fasst. Das Target ist in der Lage, 360 Grad für eine gleichmäßige Abdeckung des Substrats zu drehen und wird mit einem dünnen Film aus Gold oder anderem Material beschichtet, um zerstäubte Partikel zu erzeugen. Das Werkzeug ist auch mit einer Gasversorgung ausgestattet, die bis zu 5 Gasflaschen verschiedener Edelgase aufnimmt, die zur Erzeugung des hochdichten Plasmas verwendet werden. Der Druck und die Strömung dieser Gase können exakt vom Hauptbedienfeld aus eingestellt werden, um den Sputterprozess zu optimieren. Die Anlage verfügt außerdem über einen hochpräzisen Drehtisch, der eine präzise und gleichmäßige Beschichtung des Substrats ermöglicht. Der Tisch kann sich von 0 bis 6000 Umdrehungen pro Minute bei einer Mindestschrittweite von 5 U/min drehen, was eine präzise Anpassung der Schichtdicke ermöglicht. CANON ILC-1012 Mark II ist ein leistungsstarkes und hocheffizientes Sputtermodell, das in der Lage ist, hochwertige Dünnschichtbeschichtungen für eine Vielzahl von Anwendungen herzustellen, was es zu einer idealen Wahl für Beschichtungs- und Ablagerungslabore macht.
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