Gebraucht CANON / ANELVA ILC-1012 MKII #9144933 zu verkaufen

CANON / ANELVA ILC-1012 MKII
ID: 9144933
Wafergröße: 4" 5"
Sputtering systems, 4" 5".
CANON/ANELVA ILC-1012 MKII ist ein DC-ausgelöstes Sputtersystem für Dünnschichtabscheidungsanwendungen. CANON ILC-1012 MKII verfügt über eine ionisierte physikalische Dampfabscheidungstechnologie (PVD), die eine genaue und konsistente Beschichtung von Substraten mit einer breiten Palette von Materialien ermöglicht. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, einem Sputtertarget, einer Hochleistungskathode, einem HF-Plasmagenerator und einer Ionenquelle zur verbesserten Ionenstrahlätzung. Die Vakuumkammer von ANELVA ILC-1012 MKII wurde entwickelt, um ein Hochvakuum von 10e-4 Torr aufrechtzuerhalten. Es ist mit Keramikfaser und Aluminiumoxid isoliert und bietet ausgezeichnete thermische Stoßfestigkeit und Gleichmäßigkeit. Das Sputterziel wurde entwickelt, um die Zielerosion zu minimieren und die Abscheidungsrate zu maximieren, mit einer Sputterrate von bis zu 300 - 700 nm/min für Gold, Chrom, Stahl, Wolfram, Aluminium und andere Metalle. ILC-1012 MKII verfügt auch über eine Hochleistungskathode, die eine gleichmäßige Leistungsdichte zum Zielbereich erzeugt, ausgestattet mit einer frequenzgeregelten Gleichstromversorgung. Diese liefert die gleichmäßige elektrische Leistung, um eine konsistente und präzise Verarbeitung zu gewährleisten. Der HF-Plasmagenerator erzeugt eine sehr gleichmäßige Glimmentladung über das Zielgebiet. Der HF-Generator verfügt auch über eine programmierbare Frequenzregelung von 1MHz bis 60MHz, um eine präzise Regelung der Leistungsdichte und Filmdicke zu gewährleisten. CANON/ANELVA ILC-1012 MKII verfügt auch über eine Ionenquelle für Hochleistungs-Ionenstrahlätzen und ionenunterstützte Abscheidung (IAD). Dadurch wird das Zielmaterial verdampft und ionisiert, ohne reaktive Ätzgase einzuleiten, und es entsteht ein gleichmäßiges Magnetfeld, um Plasmabionen aus dem Zielgebiet wegzufegen. Die Ionenquelle verfügt außerdem über eine einstellbare Beschleunigungsspannung von 50V bis 1500V, die eine variable Ätzleistung von 0,1 Watt bis 30 Watt ermöglicht. CANON ILC-1012 MKII ist ein leistungsstarkes Sputtersystem, das entwickelt wurde, um gleichmäßige dünne Filme mit minimaler Zielerosion zu erzeugen. Es ist perfekt für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen, einschließlich Dünnschichtoxidbeschichtungen, ferroelektrischen Filmbeschichtungen, Halbleiterfilmbeschichtungen und dielektrischen Filmen. Seine erweiterten Eigenschaften ermöglichen eine präzise Kontrolle der Filmabscheidung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor