Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1013 #9068935 zu verkaufen

CANON / ANELVA ILC 1013
ID: 9068935
Wafergröße: 5"
In-line sputtering systems, 5".
CANON/ANELVA ILC 1013 ist eine spezielle Art von Sputteranlagen, die für viele verschiedene Anwendungen verwendet werden. CANON ILC 1013 ist ein Dreikammersystem mit drei Hauptkomponenten: einer Sputterkammer, einer Kryopumpenkammer und einer Abscheidekammer. Diese Einheit zeigt Ionslaserteilanordnungstechnologie (auch bekannt als ILC), der die äußerste Präzision bietet, wenn er kleine große Eigenschaften auf großen Substraten bedient. In der Sputterkammer sind unterschiedliche Targetmaterialien wie Metalle, Keramiken und Dielektrika in kathodischen Kammern montiert. Die Kammer wird dann mit Ar-Gas bei niedrigem Druck (1 mtorr) gespeist, an dem geeignete Zielmedien einem Ionenfluss aus Gleichstrommagnetronen unterworfen werden. Durch Variation der Spannungs- und Strompegel können Erosionsgeschwindigkeit und Zusammensetzung des zerstäubten Materials gesteuert werden. Die Kryopumpe verwendet flüssigen Stickstoff, um ein Vakuum von ~ 10-8 Torr zu unterstützen. Dies geschieht durch eine Kombination der Wärmeleitfähigkeit des Stickstoffs, der Wärmeleitfähigkeit der Vakuumwände und der von der Kryopumpe erzeugten Magnetfelder. Die Kryopumpe bietet eine extrem gleichmäßige und saubere Abscheidungsumgebung. Die Abscheidekammer enthält das Substrat, auf dem das Material abgeschieden werden soll. Dies geschieht durch einen kontinuierlichen Übertragungsmechanismus, der das Substrat mit einer auf die Dicke der Folie vorgegebenen Geschwindigkeit von einer Position zur anderen bewegt. Zur Variation der Abscheiderate wird ein Sputterratenregler verwendet. Abschließend ist ANELVA ILC 1013 eine hochmoderne Sputtermaschine mit fortschrittlichen Technologien wie der ILC-Ausrichtung, die die perfekte Ausrichtung für kleine Funktionen bietet. Seine Dreikammerarchitektur enthält sowohl eine Sputter- als auch eine Kryopumpenkammer, um eine gleichmäßige und saubere Abscheidung zu gewährleisten. Das Substrat ist spezifisch in der Abscheidekammer angeordnet und durchläuft einen kontinuierlichen Übertragungsmechanismus mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit. Dank dieses Werkzeugs können verschiedene Anwendungen wie die Abscheidung von Metallen, Keramiken und Dielektrika realisiert werden.
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