Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9220284 zu verkaufen

CANON/ANELVA ILC 1051 MKII ist eine dynamische Sputteranlage, die für die Bedampfung und Oberflächenbehandlung verschiedener Materialien für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen entwickelt wurde. Es wird zur Beschichtung und Reinigung von Metall, Keramik und Halbleitermaterialien sowie Dünnschichtabscheidung verwendet. Das System besteht aus drei Hauptkomponenten: einer Stromversorgung, einer Prozesskammer und einer Vakuumeinheit. Die Stromversorgung ist in der Lage, bis zu 500 Watt Leistung für Sputtern, Ionenfräsen und Filmwachstum zu liefern. Die Prozesskammer beherbergt das Substrat, das Zielmaterial und die Kathode. Sie ist üblicherweise an eine Vakuumpumpe angeschlossen, mit der während der Abscheidung ein Vakuum in der Kammer aufrechterhalten wird. CANON ILC 1051 MKII verwendet eine Gleichstrom (DC) -Kathode, die bei Niederfrequenz (100 kHz) hohe Abscheidungsraten liefern kann und Filme mit hoher Dichte erzeugen kann. Es verfügt über eine integrierte Prozesssteuerung, mit der Strom, Spannung, Einfallswinkel und Temperatur des Zielmaterials eingestellt werden können. Zusätzlich ist die Maschine mit einer digitalen Ausleseanzeige ausgestattet, die die Prozessparameter klar überwacht. Das Werkzeug arbeitet mit einer im Vergleich zu anderen Sputtersystemen relativ niedrigeren Temperatur, was es für eine Reihe von Materialanwendungen geeignet macht, darunter feuerfeste Metalle, keramische Targets und Silizium-Wafersubstrate. Die Prozesskammer ist ebenfalls temperaturgeregelt, was eine genaue Temperaturregelung bei der Abscheidung ermöglicht. Das Gut eignet sich auch für PVD (Physical Vapor Deposition) von leitfähigen, isolierenden und halbleitenden Filmen. Dieses Verfahren ermöglicht eine schichtweise Abscheidung mit atomarer Genauigkeit. Es kann auch zur Oxidfilmabscheidung verwendet werden, was in optoelektronischen und elektronischen Geräteanwendungen nützlich ist. Das Modell ist auch in der Lage, gleichmäßige und glatte Oberflächenbeschichtungen mit hervorragenden optischen Eigenschaften herzustellen. Insgesamt ist ANELVA ILC-1051 MKII eine fortschrittliche Sputterausrüstung, die eine breite Palette von Anwendungen und Funktionen bietet. Es ist in der Lage, eine hochwertige Dünnschichtabscheidung zu erzielen und eignet sich für eine breite Palette von Materialien. Das System bietet auch eine präzise Prozesssteuerung, Temperaturregelung und schichtweise Abscheidung. All diese Funktionen machen es zu einer guten Wahl für Forscher und Industriefachleute, die nach einer vielseitigen und zuverlässigen Sputtereinheit suchen.