Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1051 #293821354 zu verkaufen
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ID: 293821354
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1990
Sputtering systems, 6"
PDC-307D
DC Power Supply
Vacuum pump
Process: Ti, TiN, Ai, Si, Cu
(2) PDC-157E
(5) CAP80 Mark II Cryopumps
(2) Compressors (CRC-870 MKII and CRC-874)
1990 vintage.
CANON/ANELVA ILC 1051 ist eine Sputteranlage für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es ist in der Lage, verschiedene Materialien auf eine Vielzahl von Substraten einschließlich Oxid, Metall, Nitrid und organische Passivierungsschichten abzuscheiden. CANON ILC 1051 bietet auch die Möglichkeit, Magnetron-Sputtertechnologie zu verwenden, um Filme aus einer Vielzahl von Materialien abzulegen, darunter Titan, Chrom, Kupfer und Aluminium. Das System ist mit einer integrierten Prozesskammer und einer patentierten Lastschloßeinheit ausgestattet. Dadurch kann die Maschine schnell und mit hohem Durchsatz Materialien auf Substraten abscheiden. Darüber hinaus ermöglicht das Lastschloß das gleichzeitige Be- und Entladen mehrerer Substrate, ohne dass das Kammerinnere kontaminierter Luft ausgesetzt wird. Die integrierte Prozesskammer ist gleichmäßig beheizt und hat eine große Arbeitsfläche, so dass dünne Filme unterschiedlicher Dicke abgeschieden werden können. Es ist auch in der Lage, hochgleichmäßige Folien mit präziser Kontrolle der Foliendicke herzustellen. Das Werkzeug ist mit einer einstellbaren Gasdurchflusssteuerungsplatine und einem Sputterdruckwächter ausgestattet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Umgebung innerhalb der Kammer unter Kontrolle gehalten wird und der Benutzer den Gasdruck einstellen kann, um die gewünschte Zerstäubungsrate zu erreichen. Die Anlage ist außerdem mit einem Rotationsmechanismus ausgestattet, mit dem das Substrat gedreht werden kann, während der Abscheidevorgang stattfindet, wodurch Gleichförmigkeitsfehler durch ungleichmäßige Filmabscheidung reduziert werden. Das Modell verwendet eine Gleichstromversorgung und eine Mehrplattenausrüstung zur Steuerung der Sputterrate. Dies ermöglicht eine präzise Kontrolle der Abscheidegeschwindigkeit. Die Gleichstromversorgung ermöglicht es dem System auch, Materialien auf eine Vielzahl von Substrattypen abzuscheiden, darunter große Substrate und Substrate unterschiedlicher Dicke. ANELVA ILC-1051 ist eine zuverlässige und effiziente Einheit, die eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen für die Halbleiterindustrie bietet. Es ist in der Lage, dünne Filme unterschiedlicher Dicke mit präziser Steuerung der Zerstäubungsgeschwindigkeit auf eine Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Darüber hinaus bietet es einen großen Arbeitsbereich und verfügt über eine integrierte Lastschloßmaschine zum schnellen Be- und Entladen von Substraten, was es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterverarbeitung macht.
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