Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1051 #9269411 zu verkaufen

CANON/ANELVA ILC 1051 ist eine Sputterausrüstung, die entwickelt wurde, um eine hochwertige, genaue Abscheidung einer Vielzahl von Materialien auf verschiedenen Substraten zu gewährleisten. Das System bietet eine breite Palette von Sputtertechnologien, wie DC-Magnetronsputtern, HF-Diodensputtern und Gleichstrom-Ionenplattieren, was eine hochpräzise Dünnschichtabscheidung mit überlegenen Eigenschaften und Leistung ermöglicht. Das Gerät besteht aus einer kompakten, aber leistungsstarken Gleichstromversorgung, einem Array von bis zu drei Sputterpistolen und einer Vakuumkammer mit einem einstellbaren Druckbereich zwischen 1 x 10⁻¹³ Torr und Atmosphärendruck. Die Vakuumkammer beiseite, die Hauptkomponenten der Maschine sind auf einer einzigen Plattform integriert, die einen kleinen Platzbedarf ermöglicht und gleichzeitig eine robuste Umgebung bietet, die den hohen Temperaturen und Drücken bei Sputterprozessen standhält. Die Gleichstromversorgung ist in der Lage, bis zu 0.5kW pro Sputterpistole im Strommodus oder bis zu 500W pro Sputterpistole im Spannungsmodus für mehr Präzision und höhere Abscheideraten zu liefern. Die Sputterpistolen selbst sind ein innovatives Design, das interne Magnetfelder verwendet, die von einer elektromagnetischen Spule erzeugt werden, um den Plasmafokus und die Gleichmäßigkeit der höheren Abscheidung zu optimieren. Die Innenspule kann auch mit zusätzlicher HF-Frequenz versorgt werden, um die Abscheiderate von reaktiven Materialien zu erhöhen. Das Innere der Vakuumkammer ist mit Sensoren besetzt, um Druck, Temperatur und Materialzusammensetzung zu beobachten. Bis zu drei Sputterpistolen können zur gleichzeitigen Abscheidung mehrerer Materialien auf mehreren Substraten installiert werden, wodurch Schichtprodukte hergestellt werden können. CANON ILC 1051 ist eines der fortschrittlichsten Sputtersysteme, das es heute gibt. Die Kombination aus fortschrittlichen Technologien, einer breiten Palette von Abscheidungsmaterialien und automatisierten Plattformen ermöglicht Abscheidungsraten bis zu 4-mal schneller als Standardsysteme und mit überlegenen physikalischen und chemischen Eigenschaften. Mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit und der Fähigkeit, mehrere Materialien auf mehreren Substraten abzulegen, ist dieses Werkzeug das optimale Werkzeug für die Herstellung hochwertiger Sputterteile und Produkte.