Gebraucht CANON / ANELVA L-350S-C #9053825 zu verkaufen

CANON/ANELVA L-350S-C ist eine Sputteranlage für den Einsatz in Fertigungsprozessen. Es ist eine Single-Source, Doppelwaffe Maschine in der Lage, eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Keramik, Metall und Polymer zu produzieren. Die Maschine verfügt über ein automatisiertes Substratbeladesystem, eine digitale Anzeige zur Parametereinstellung und eine robuste Vakuumeinheit. Das digitale Display ermöglicht eine benutzerfreundliche Programmierung und Bedienung und kann zum Einrichten und Überwachen des Sputterprozesses verwendet werden. Parameter wie Vorspannung, Sputterleistung, Druck und Temperatur können auf dem digitalen Display einfach und genau eingestellt werden. Die Maschine ist auch mit automatischen Gasdurchflusssteuerungen ausgestattet, die sicherstellen, dass die gewünschten Druck- und Gasdurchflussraten während des gesamten Sputterprozesses eingehalten werden. Die automatisierte Lademaschine von CANON L-350S-C sorgt für ein zuverlässiges und konsistentes Substrathandling. Der Belademechanismus weist ein Gleiswerkzeug auf, das das Substrat von und zur Sputterkammer bewegt. Die Maschine verfügt zudem über eine spezielle Plasmaformvorrichtung, die sicherstellt, dass die genaue Menge an Plasma zum Sputtern des gewünschten Materials aufgebracht wird. Die Maschine ist auch mit einem robusten Vakuum-Modell ausgestattet, um einen stabilen Druck- und Gasfluss während des gesamten Sputterprozesses aufrechtzuerhalten. Die Vakuumausrüstung besteht aus einer Schrupppumpe und zwei Hochvakuumpumpen, die einen Niederdruckbetrieb und eine geringe Verschmutzung ermöglichen. Das Vakuumsystem arbeitet in einem Druckbereich von 1 mbar bis 10-6 mbar und ermöglicht den Betrieb bei Temperaturen von bis zu 1.000 Grad C. ANELVA L-350S-C ist eines der zuverlässigsten Sputtersysteme auf dem Markt. Das hochwertige Design, die robuste Vakuumeinheit und die automatisierte Substratlademaschine machen es ideal für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen. Die Maschine ist auch sehr anpassbar, so dass Benutzer ihre Sputterprozesse feinjustieren und hochwertige Materialien produzieren können.