Gebraucht CANON / ANELVA L-400EK-L #9372506 zu verkaufen

CANON/ANELVA L-400EK-L ist eine automatische Sputteranlage für die Großserienfertigung, die hochpräzise Sputterabscheidungstechnologie und eine anspruchsvolle Vakuumkammer zu einem effizienten System kombiniert. Sein fortschrittliches Design bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit von dünnen Filmen, die bei sehr hohen Abscheideraten mit niedriger Kammerleckrate, extremer Zuverlässigkeit und niedrigen Wartungskosten abgeschieden werden. CANON L-400EK-L Sputtereinheit besteht aus vier Hauptkomponenten: der Sputterkammer, der Sputterquelle, der Vakuummaschine und dem Prozesssteuerungswerkzeug. Die Vakuumkammer besteht aus Edelstahl und ist in der Lage, Ultrahochvakuum zu erreichen, wodurch die effiziente Abscheidung von Ultradünnfilmen möglich ist. Die Prozesskammer ist mit einer Vorderpumpe, einer Schrupppumpe, einer Ionenquelle und einer Turbopumpe ausgestattet. Die Hochleistungspumpe hilft, das Vakuum schnell auf das erforderliche Arbeitsniveau zu reduzieren, während die Schrupppumpe während des gesamten Prozesses einen konstanten Druck aufrechterhält. Die Sputterquelle ist eine atmosphärische Gleichstromquelle mit einer maximal einstellbaren Leistung bis 400kW. Es ist mit bis zu 40 Sputterpistolen ausgestattet, die dünne Filme gleichzeitig auf verschiedenen Substraten ablegen können. Der Sputterprozess ist sehr reproduzierbar und bietet eine ausgezeichnete Homogenität über die Probenoberfläche. ANELVA L-400EK-L verfügt über eine automatisierte Steuerung zur präzisen Überwachung und Steuerung des Sputterprozesses. Mit dem ausgeklügelten Steuermodell können Sie die Parameter und Bedingungen genau nach Ihren gewünschten Werten steuern. Das Gerät ist auch sehr adaptiv und kann sich auf plötzliche Veränderungen der Sputterbedingungen einstellen, so dass gleichmäßige und gleichmäßige Ablagerungen erreicht werden. Insgesamt ist L-400EK-L System eine effiziente und zuverlässige Zerstäubungseinheit für die Großserienfertigung. Sein fortschrittliches Design und seine anspruchsvolle Steuerungsmaschine machen es ideal für die Abscheidung von hochpräzisen Metall- und Halbleiterdünnfilmen mit einer ausgezeichneten Gleichmäßigkeit und Abscheiderate. Das hervorragende Preis-Leistungs-Verhältnis macht es zu einem der beliebtesten Sputtersysteme, die heute auf dem Markt erhältlich sind.