Gebraucht CANON / ANELVA L-410S-FHL #9156826 zu verkaufen

CANON/ANELVA L-410S-FHL ist ein Sputtergerät, das hauptsächlich für Anwendungen zur physikalischen Bedampfung (PVD) verwendet wird. Dieses Spritzensystem besteht aus einem Vakuumraum, der einen Tiefdruck verwendet, ätzen Langmuir-Hinshelwood Prozess. Dies geschieht, um dünne, sehr gleichmäßige Materialschichten auf Substraten wie Glas, Silizium, Kunststoffen und Metallen zu erzeugen. Die Einheit arbeitet in zwei Stufen: eine Primärkammer mit einer Elektronenkanone und eine Sekundärkammer mit einer Sputterkanone. Die Primärkammer ist mit einer Elektronenkanone ausgestattet und besteht aus einem Acrylglockenglas, das mit einer Vakuumpumpe verbunden ist. Die Elektronenkanone erzeugt einen Elektronenstrahl, der verwendet wird, um eine dünne Schicht aus einem Material abzuscheiden. Dieser Strahl wird durch Anlegen einer Spannung zwischen zwei Metallelektroden erzeugt. Die Spannung wird im allgemeinen durch einen Schrittmotor gesteuert. Die Elektronen werden beschleunigt und kollidieren dann mit den Molekülen des Zielmaterials, wodurch sie zerfallen und auf das Substrat getrieben werden. Dieses Verfahren ergibt eine konforme Beschichtungsschicht mit gleicher Dicke über die gesamte Oberfläche. Die Sekundärkammer enthält eine Sputterpistole und besteht aus einem Acrylglockenglas. Mit dieser Pistole wird eine zweite dünne Materialschicht auf das Substrat gespritzt. Das Verfahren ist ähnlich wie die Elektronenkanone, aber die Sputterpistole besteht aus drei Elektroden. Auf die Anode (positiv geladene Elektrode) wird ein negativ geladenes Targetmaterial aufgesetzt. Beim Anlegen einer Spannung zwischen der Anode und der Kathode werden Ionen aus dem Targetmaterial ausgetrieben, die dann mit dem Substrat kollidieren und eine dünne Materialschicht darauf abscheiden. Dieses Verfahren führt zu einer gleichmäßigen Abdeckung mit sehr hoher Abscheidegeschwindigkeit. CANON L-410S-FHL Sputtermaschine wird in verschiedenen Branchen wie Elektronik, Automobil und Beleuchtung für seine gleichmäßige Abdeckung und milde Abscheidungsbedingungen eingesetzt. Dieses Werkzeug gewährleistet Genauigkeit und Wiederholbarkeit für eine breite Palette von Sputter-Abscheide- und PVD-Prozessen.