Gebraucht CANON / ANELVA SPC-530H #9111247 zu verkaufen

CANON / ANELVA SPC-530H
ID: 9111247
Weinlese: 1999
Sputtering system Nonfunctional power supply Missing internal parts 1999 vintage.
CANON/ANELVA SPC-530H ist eine Hochleistungs-Sputteranlage für den industriellen Einsatz. Es vereint zwei Komponenten: eine Magnetronsputterquelle auf Plasmabasis und eine Kammer zur Erzeugung einer Vakuumumgebung. Die auf Plasma basierende Magnetronsputterquelle verwendet eine Elektronendusche, um ein Gasgemisch aus Argon und Sauerstoff anzuregen, das ein Plasma erzeugt und eine energetische und gleichmäßige Entität zum Bombardieren einer Substratoberfläche bereitstellt. Die kristalline Struktur der Oberfläche wird dann durch Beschuss von atomaren Spezies verändert. Die Kammer für CANON SPC-530H ist für eine Vakuumumgebung ausgelegt, die eine Abscheidung von Material auf dem Substrat unter raumähnlichen Bedingungen ermöglicht. Bei einem Enddruck von 1x10-6 Pa ist die Kammer mit einer externen Verstärkerpumpe ausgelegt, um die gewünschte Vakuumumgebung aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus ist die Kammer mit einer Vakuumleitung, Rohrleitungen und Ventilen ausgestattet, um die Integrität der Kammer zu gewährleisten und die optimale Leistung zu erhalten. ANELVA SPC-530H verfügt über mehrere Merkmale, wie z.B. eine Ionenquelle, die die Filmabscheidung durch Steuerung der Ionisation eines Atoms und eines Quellenleistungsdetektors steuern kann, was die Überwachung des Prozesses unterstützt und Rückkopplung abgibt, um die gewünschte Filmabscheidung aufrechtzuerhalten. Ferner umfasst SPC-530H ein Plasmaüberwachungsfenster, das eine Beobachtung des Plasmas in der Kammer ermöglicht und eine weitere Feinabstimmung des Prozesses ermöglicht. Insgesamt ist CANON/ANELVA SPC-530H ein fortschrittliches Sputtersystem für den industriellen Einsatz. Es kombiniert eine Magnetronsputterquelle auf Plasmabasis und eine Kammer zur Bereitstellung einer Vakuumumgebung. Das Gerät ist mit Merkmalen wie einer Ionenquelle, einem Quellleistungsdetektor und einem Plasmaüberwachungsfenster ausgestattet, die eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses ermöglichen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen ist diese Maschine in der Halbleiter- und Automobilindustrie weit verbreitet und bietet Benutzern hochpräzise, zuverlässige und kostengünstige Ergebnisse.
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