Gebraucht CANON TOKKI CR 099 #9143788 zu verkaufen

CANON TOKKI CR 099
Hersteller
CANON TOKKI
Modell
CR 099
ID: 9143788
RF sputtering system.
CANON TOKKI CR 099 ist eine Sputteranlage zum Aufbringen von dünnen Materialfilmen auf eine Reihe von Werkstückmaterialien. Das System kann für verschiedene Arten von Sputterabscheidungsprozessen verwendet werden, einschließlich Hochgeschwindigkeits-, Niederdruck-physikalische Dampfabscheidung (HRLP-PVD) und Niederdruck-chemische Dampfabscheidung (LPCVD). Das Gerät wird von einem Hochspannungs-Gleichspannungsnetzteil gespeist und verwendet ARC, EOS und C8070 Inverter, um den Sputterprozess genau zu steuern. Die ARC und EOS Wechselrichter bieten die Möglichkeit, die Temperatur und Leistung des Sputterprozesses unabhängig zu steuern, während die C8070 zusätzliche Stromsteuerungs- und Frequenzregelungsfunktionen bietet. Die Maschine enthält auch ein Advanced Process Monitor (APM) -Werkzeug, das Prozessparameter überwacht und aufzeichnet. CR 099 umfasst drei verschiedene Kammern: eine Hauptvakuumkammer, eine zweite Heizkammer und eine dritte Kühlkammer. Die Hauptkammer hat ein Arbeitsvolumen von 2,1m3 und einen Betriebsdruckbereich von 1,0 bis 2,0 Pa.Innerhalb der Hauptkammer wird eine drehbare Magnetronsputterquelle zum Aufsputtern des Zielmaterials auf das Werkstück verwendet. Die zweite und dritte Kammer sind mit Heiz- bzw. Kühlsystemen ausgestattet und dienen zur Steuerung der Abscheiderate und Temperatur des zerstäubten Materials. Darüber hinaus umfasst das Asset ein automatisches Lademodell, mit dem der Sputterprozess kontinuierlich ohne manuelle Arbeit ausgeführt werden kann. Die Ausrüstung ist mit den notwendigen Sicherheitsmerkmalen wie Druckgrenze und Wärmeschutzfunktionen ausgestattet. CANON TOKKI CR 099 ist in der Lage, Filme mit einer Dicke von 0,3 bis 40 µm mit einer beeindruckenden Gleichmäßigkeit von +/- 5% zu produzieren. Das System ist auch für eine Vielzahl von Materialzusammensetzungen konzipiert, darunter Metalle, Keramiken und Polymere. Es bietet auch eine breite Palette von Prozessparametern, einschließlich Rate der Abscheidung, Abstand vom Werkstück, und Einheit Leistung. Insgesamt ist die Sputtermaschine CR 099 eine zuverlässige und effektive Lösung für die Abscheidung von Dünnfilmen. Infolgedessen ist es in einer Vielzahl von Branchen weit verbreitet, von der Halbleiterherstellung, Photovoltaikzellen und Display-Produktion bis hin zu medizinischen und optischen Anwendungen.
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