Gebraucht CPA 9900-1 #9173304 zu verkaufen
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ID: 9173304
Horizontal in-line sputtering system
Process parameter control ranges:
Sputtering pressure: 5 microns to 30 microns
Conveyor speed: 0.1 to 80 cm.min
D.C. Deposition power level: 100 to 9000 watts
R.F. Deposition power level: 50 to 3000 watts
R.F. Sputter clean power level: 15 to 1000 watts
Substrate heating: Inline heating is variable from ambient to 350°C
Uniformity performance:
(Across 12” sputter zone)
Etch: ±10%
Deposition:
R.F. Magnetron ±10%
D.C. Magnetron ±5%
Vacuum performance:
Ultimate pressure (total system):
2X 10(-7) in 16 hours clean, dry and empty
5 x 10(-7) in 30 minutes
Rate of rise:
More than 6 minutes to 1 x 10(-4) torr clean, dry and empty
Vacuum tight: Less than 5 x 10(-10) standard atmosphere cc helium/second
Optional features:
Multiple cathodes
Multiple power supplies
DC and RF in any mix
With / Without sputter etch
With / Without substrate heating
Turbo pump Hi-Vac
Cryo pump Hi-Vac
Sputter up / Sputter down
With / Without load lock
Various numbers of process gases
Rail bias
Installed RGA
With / Without window shutters
Unequipped chamber for future expansion
Target assembly sizes: 15”, 22”, 35”, and 50”
Utility requirements:
Power:
208 V
100 Amps
3 Phase
50 / 60 Hz
4 Wire delta
5 Wire wye
Water temperature: 50° - 75° F (10-24°C)
Air: 70 to 100 PSIG (6 to 8 ATU) filtered 1 CFM
Sputtering gas: Typically 5 PSIG (1.3 ATU) Argon.
CPA 9900-1 Sputtergeräte sind eine vielseitige und langlebige Lösung für eine Vielzahl von Beschichtungs- und PVD-Anwendungen. Dieses Sputtersystem verwendet hochleistungsfähige planare Magnetronsputterquellen, um dünne Filme von Zielmaterialien auf Substraten abzuscheiden und bietet sowohl eine hohe Gleichmäßigkeit als auch eine hervorragende Verwendung des Zielmaterials. 9900-1 ist auch eines der schnellsten Sputtersysteme auf dem Markt und ermöglicht eine Abscheidungsrate von bis zu 300 nm pro Minute. Die Sputterquellen der Einheit können für den Betrieb auf einer Vielzahl von Substraten, einschließlich einer breiten Palette von Materialien aus Keramik, Glas, Silizium und Metall, angepasst werden. Durch die Verwendung einer Turbomolekularvakuumpumpe und einer innovativen Kühlmaschine ist CPA 9900-1 in der Lage, hohe Vakuumdrücke von 1x10-7 Torr zu erreichen. Das Werkzeug verfügt auch über eine große Arbeitsfläche von 10,7x7,2 Zoll, so dass es größere Substrate verarbeiten kann. Darüber hinaus enthält 9900-1 eine Reihe von Automatisierungsmerkmalen, wie z.B. seine automatische Abscheidedickenüberwachung, die in der Lage ist, die Abscheidungsdicke in Echtzeit zu messen und Parameter entsprechend für eine höhere Gleichmäßigkeit einzustellen. Darüber hinaus bietet das Gerät auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich Not-Aus-Tasten und eine Schutzkammer im Falle eines Problems während des Betriebs. Abschließend bietet CPA 9900-1 eine zuverlässige und konstant leistungsstarke Sputterlösung für eine Vielzahl von Oberflächen und PVD-Anwendungen. Es ist in der Lage, große Substrate zu handhaben und kann Zielmaterialien mit einer Rate von bis zu 300nm pro Minute mit seinen hochleistungsfähigen planaren Magnetronsputterquellen abscheiden. Mit seinen zahlreichen Automatisierungs- und Sicherheitsmerkmalen ist 9900-1 eine ideale Wahl für alle, die ein leistungsstarkes und vielseitiges Sputtermodell suchen.
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