Gebraucht CVC 2800 #9054640 zu verkaufen

Hersteller
CVC
Modell
2800
ID: 9054640
Cluster tool Loadlock chamber: ion mill ~50A/min Heater chamber: HAS, ~250ºC Chamber 1, (3) targets: Titanium Ti-W: 10% wt Titanium to 90%wt Tungsten Copper RF Power supply: HAS 1 Chamber 2, (3) Targets: Copper doped Aluminum, 5%wt Tantalum Tantalum RF power supply: HAS 1 Process gas: (3) mass flow controllers: argon, nitrogen, oxygen Includes: (3) CTI 8 Cryo pumps and compressors Mechanical vacuum pump: Alcatel M2033 Substrate handling options: 6" round substrate pallet capable of holding (8) substrates 8" round substrate pallet capable of holding (6) substrates Customized 8" to 6" Adaptable Pallet for Edge Protection.
CVC 2800 Sputterausrüstung ist ein Hochleistungs-In-Line-Abscheidungssystem von Cambridge Vacuum Coatings. Das Gerät ist für die Abscheidung unterschiedlichster Materialien auf vielen Substraten ausgelegt. Es verwendet einen modularen Konstruktionsansatz, der eine einfache Anpassung bei Bedarf für Prozessintegration und Automatisierung ermöglicht. Die zentrale Manipulationsmaschine von 2800 Werkzeug besteht aus zwei Sputterkammern und einer Beschichtungskammer. Jede Sputterkammer ist mit vier Magnetronquellen und vier Substraten ausgestattet, um die Abscheidungsrate und den Durchsatz zu maximieren. Die Beschichtungskammer ist mit einer thermischen Oxidationskammer ausgestattet, um die Substrattemperaturregelung zu verbessern und das Wachstum dünner Filme zu optimieren. Das Plasma wird in der Sputterkammer durch ein gepaartes Filamentgut in der Kathodenquelle erzeugt. Dadurch wird eine Elektronenkanone erzeugt, die Elektronen zur Anodenquelle beschleunigt und eine Glimmentladung erzeugt. In der Beschichtungskammer wird das hochdichte Plasma durch eine ferngesteuerte Spannungsversorgung erzeugt, die eine heiße Schicht aus ionisierten Molekülen neben dem Substrat hinterlässt. Das zerstäubte Material kondensiert dann auf dem Substrat. CVC 2800 Sputtermodell ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, die es für den Einsatz in verschiedenen Beschichtungsanwendungen geeignet machen. Dazu gehören einfach zu bedienende Automatisierungsschichten auf manueller Kammer-zu-Kammer-Steuerung, automatische Steuerung von Substrat- und Kathodenquellenparametern, eine vielseitige Messsuite und eine breite Palette von Materialien, die abgeschieden werden können. Zusätzlich sind 2800 Geräte in der Lage, unter Hochvakuum und bei schnellen Pumpgeschwindigkeiten zu arbeiten. Alle diese Eigenschaften machen CVC 2800 Sputtersystem die ideale Wahl für die Erzielung von Dünnschichtabscheidung mit hoher Präzision, Wiederholbarkeit und hohem Durchsatz. Damit ist das Gerät die erste Wahl für viele verschiedene industrielle Ablagerungen wie medizinische Geräte, Sensoren, Displays und Optoelektronik.
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