Gebraucht CVC 2800 #9185093 zu verkaufen

CVC 2800 ist eine hochentwickelte Sputterausrüstung, die für die Abscheidung von dünnen Filmen auf Substraten aus fast jedem Material verwendet wird, von Halbleitern bis zu optischen Materialien. Diese wird vor allem in der Nanofabrikation sowie in Forschung und Entwicklung eingesetzt. Hauptbestandteil des Systems ist die Sputterquelle, die Gas als elektrischen Leiter verwendet, um ein Zielmaterial mit Elektronen zu bombardieren. Durch diese Beschießung verdampft das Zielmaterial und die verdampften Partikel werden dann in kontrollierter Atmosphäre auf das Substrat abgeschieden. Die Quelle von 2800 besteht aus zwei getrennten Körpern, dem Oberkörper und dem Unterkörper. Der Oberkörper enthält ein Target, während der Unterkörper die Gaszufuhr und den Konditionierer enthält. Das Zielmaterial wird entsprechend der Art der gewünschten Abscheidung ausgewählt. Dies ist in der Regel eine Kombination von Metallen wie Magnesium, Titan, Chrom und Aluminium. Es kann auch andere Metalle wie Kupfer, Zink und Gold enthalten. Je nach Substratmaterial können unterschiedliche Targetmaterialien verwendet werden. Beispielsweise kann für ein elektrisch leitfähiges Substrat wie einen Halbleiter Titan als Targetmaterial verwendet werden. CVC 2800 ist kompatibel mit verschiedenen Arten von Substraten, einschließlich Silizium, Glas und Metallen. Die Einheit eignet sich gut zur Herstellung von Mehrschichtfolien unterschiedlicher Dicke auf einem einzigen Substrat. Dies liegt an der variablen Druckfähigkeit der Maschine, die eine bessere Kontrolle der Abscheiderate der Folien ermöglicht. Das Werkzeug ist in der Lage, eine Vielzahl von Sputtertechniken, einschließlich hohe Rate und niedrige Rate Abscheidung. Die Anlage verfügt außerdem über ein integriertes Druckmessgerät und eine einstellbare Gasdurchsatzregelung zur Aufrechterhaltung der Sputterraten. Darüber hinaus hat das Modell die Möglichkeit, im halbkontinuierlichen Modus oder im mehrstufigen Modus betrieben zu werden. Um optimal arbeiten zu können, müssen 2800 regelmäßig gereinigt und gewartet werden. Dazu gehört auch die Reinigung der Zielflächen, die im Laufe der Zeit mit Abscheidungsrückständen verstopfen können. Das Gerät erfordert auch eine regelmäßige Kalibrierung, um sicherzustellen, dass die Abscheideraten korrekt sind. Insgesamt ist CVC 2800 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Sputtersystem, das helfen kann, hochwertige dünne Filme auf fast jedem Substrat zu erstellen. Die einstellbaren Parameter des Geräts können für jede einzelne Anwendung feinjustiert werden, und seine Kompatibilität mit einer breiten Palette von Substratmaterialien macht es zu einer guten Wahl für jedes Forschungs- und Entwicklungslabor oder Nanofabrikationsanlage.