Gebraucht CVC 601 #153595 zu verkaufen

CVC 601 ist eine Sputterausrüstung, die die Synthese fortschrittlicher Materialien revolutioniert. Es ist eine fortschrittliche Physik-basierte Plattform, die speziell entwickelt wurde, um Mikron- und Submikron-Dünnschichtabscheidung mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und optimaler Schichtdicke zu liefern. Das System ist mit Gleichstrom (DC) -Stromversorgung und Vakuum-Prozesskammer sowie anderen Komponenten ausgestattet. 601 wird entwickelt, um Sputtern mit Magnetronkathodentechnologie durchzuführen, die hochpräzise einstellbare Magnetfelder verwendet, um eine stabile Plasmaquelle mit hoher Dichte zu erzeugen. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheiderate und homogene Gleichmäßigkeit der dünnen Filme. Zusätzlich enthält CVC 601 auch einen reflektierenden Plasmasputterprozess, der sowohl die Ionisations- als auch die Abscheiderate des Sputterprozesses präzise moduliert. Dadurch entfällt die manuelle Steuerung und die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung wird weiter erhöht. Weitere Schlüsselkomponenten der Sputtereinheit 601 sind Hochleistungspumpeinheiten für präzise Drucksteuerung, erweiterte Vakuum-Prozesskammer und fensterlose verbundene Substrate. Alle diese umfassen seine Vakuumkammer. Die Drucksteuermaschine des Werkzeugs ist mit einer Luftschleuse ausgestattet, um die volumenstarke Beladung von Substraten effizient zu bewältigen. Es weist ferner eine Inertgaseinspritzöffnung zur präzisen Gasdruckregelung auf, um eine gleichmäßige Ionisierung des Sputtervorgangs zu gewährleisten. Die fortschrittliche fensterlose Substratkonfiguration von CVC 601 sorgt für eine gleichmäßige Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung. Es hilft auch, das Risiko von Substratbruch durch harte thermische Zyklen zu reduzieren. Darüber hinaus ermöglicht es den optionalen Einsatz verschiedener Materialien wie: Glas, Edelstahl oder dielektrische Substrate je nach gewünschter Anwendung. 601 ist in der Lage, dünne Filme in Dicken von bis zu 250 Nanometern auf Substraten abzuscheiden. Darüber hinaus ermöglicht die hochpräzise Prozesssteuerung eine Steuerung und Optimierung der Dicken für ein breites Anwendungsspektrum ohne manuelle Anpassung. Zusammenfassend ist CVC 601 Sputtermodell entworfen, um qualitativ hochwertige dünne Filme mit konsistenter Gleichmäßigkeit bei präzisen Dicken mit verbesserter Prozesseffizienz und Genauigkeit zu produzieren. Seine überlegene Technologie und Komponenten garantieren eine reproduzierbare und zuverlässige Abscheidung mit minimalem Aufwand und Ausfallzeiten.