Gebraucht CVC AST 400 #126819 zu verkaufen

CVC AST 400 Sputterausrüstung ist ein revolutionäres neues System zur Beschichtung von Objekten mit einer Vielzahl von Materialien. Sie besteht aus einer Hochvakuumkammer, Kathodenverkabelung und Kontakten, einer HF-HF-Stromquelle und einer zentralen Vakuumpumpeinheit. AST 400 Sputtermaschine ist in der Lage, dünne Schichten aus Metall oder anderem Material auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Die Vakuumkammer von CVC AST 400 ist so konzipiert, dass sie eine Ultrahochvakuumumgebung für den Sputterprozess bereitstellt, so dass dünne Materialschichten auf das Substrat abgeschieden werden können, ohne dass das Substrat beschädigt wird. Die Kammer ist mit Hochvakuum- und Schnellwechselventilen ausgestattet und kann einen Grunddruck von 0,001 Torr erreichen. Die Kammer weist ferner ein algorithmengetriebenes Gasmischwerkzeug zur besseren Steuerung des Sputtervorgangs auf. Der hocheffiziente HF-Generator des Geräts bietet eine kontrollierte und einstellbare HF-Stromquelle, die verwendet werden kann, um die Rate der Materialabscheidung zu variieren und präzise Schichtdicken bereitzustellen. Der Generator ist mit einem rauscharmen Hochleistungsverstärker ausgestattet, um sicherzustellen, dass die HF-Leistung beim Sputtern konstant bleibt. Das Modell ist komplett mit einer fortschrittlichen zentralen Vakuumpumpausrüstung, die gewährleistet, dass die Vakuumkammer einen optimalen Druck für effizientes Sputtern hält. Die Vakuumpumpe besteht aus einer hochpräzisen Turbo-Molekularpumpe mit einstellbarer Durchflussmenge, die Drücke bis auf 0,001 Torr erreichen kann. Das Pumpsystem ist so konzipiert, dass Wartungszeit und Kosten reduziert werden. Insgesamt ist AST 400 Sputtering Unit eine revolutionäre Maschine zum Aufbringen dünner Materialschichten auf eine Vielzahl von Substraten. Das Tool wurde entwickelt, um hervorragende Ergebnisse zu erzielen und gleichzeitig Wartungskosten und Zeit zu reduzieren. Sein hocheffizienter HF-Generator sorgt für konsistente Sputterergebnisse, während die zentrale Vakuumpumpe für einen optimalen Druck sorgt.