Gebraucht CVC ICS 660 #135722 zu verkaufen

CVC ICS 660 ist eine Gleichstrom (DC) Magnetron-Sputteranlage, die zum Aufbringen von dünnen Schichten verschiedener Beschichtungen auf Substrate verwendet wird. Dieses Sputtersystem kombiniert eine Hochleistungs-Sputterpistole mit einer einzigartigen Kombination von Pistolenhalterungen, die entwickelt wurden, um eine überlegene Substratabdeckung und beispiellose Lebensdauer in Hochleistungsanwendungen zu bieten. Das Gerät wird von einem Gleichstromnetzteil mit einstellbaren Spannungs- und Stromeinstellungen versorgt, die für jede Pistole separat einstellbar sind. ICS 660 verfügt über eine Vielzahl von Magneten, darunter rechteckige und kreisförmige Magnete, die eine Feinabstimmung des Sputterprozesses ermöglichen. Die Maschine basiert auf dem rotierenden Magnetronsputterverfahren (RMS), bei dem eine Hochleistungsmagnetronpistole auf einer rotierenden Plattform zwischen dem Substrat und einem rotierenden Quellmagneten montiert ist. Diese Art von Sputterwerkzeug erzeugt eine gleichmäßige Verteilung des Materials auf das Substrat und hat gegenüber den herkömmlicheren, planaren Sputtersystemen mehrere Vorteile. Am wichtigsten ist, dass die rotierenden Aspekte der Anlage die gleichmäßige Abscheidung dünner Schichten über die gesamte Substratoberfläche ermöglichen. Durch diesen gleichmäßigen Abscheidevorgang wird die Abscheidung in Sackflecken nahe den Rändern des Substrats eliminiert, wodurch eine ungleichmäßige Schichtdicke erzeugt werden kann. CVC ICS 660 enthält auch eine Vielzahl von erweiterten Funktionen. Die rotierende Waffenhalterung ermöglicht präzise Anpassungen des Sputterwinkels, um eine optimale Abdeckung des Substrats zu gewährleisten. Zusätzlich ermöglichen die einstellbaren Manometer dem Anwender, den Druck entsprechend den individuellen Anwendungsanforderungen neu einzustellen. Das Modell ist auch mit intelligenten Sensoren ausgestattet, die erkennen können, wann die Sputterpistole im Begriff ist, Zielmaterial zu verlieren, und die Prozessparameter automatisch anpassen, um eine einfache und konsistente Abscheiderate zu erhalten. Die Sputteranlage ICS 660 produziert hochwertige Dünnschichten für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen, von der Mikroelektronik bis zur Luft- und Raumfahrt. Unter Verwendung von Gleichstromversorgungen und dem RMS-Prozess bietet CVC ICS 660 eine gleichmäßige Abscheidung von Metall, Metalloxid und anderen Dünnschichtmaterialien auf praktisch jeder Größe oder Form des Substrats. Seine fortschrittlichen Funktionen gewährleisten ein hohes Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit und bieten dem Benutzer gleichzeitig die Möglichkeit, den Abscheidungsprozess auf seine spezifischen Anforderungen abzustimmen.