Gebraucht DENTON VACUUM DESK II #293618089 zu verkaufen

DENTON VACUUM DESK II ist ein kompaktes und benutzerfreundliches Sputtergerät für die Dünnschichtabscheidung. Es ist ein vakuumbasiertes Abscheidungssystem, das für Hochleistungsfilmabscheidungsanwendungen wie kathodische Lichtbogenabscheidung, Ionenstrahlsputtern, physikalische Dampfabscheidung und reaktive Sputterabscheidung entwickelt wurde. Das Gerät verfügt über eine breite Palette von Substratkonfigurationen und Prozessparametern wie Arbeitsdruck, Temperatur und Zielmaterial. Es ist einfach zu bedienen und zu warten und ermöglicht es Benutzern, Substrate, Zielmaterialien und Parameter schnell an die Bedürfnisse ihres spezifischen Prozesses anzupassen. Die Sputterkammer von DESK II ist aus Edelstahl gefertigt und verfügt über ein dreiteiliges Design, das einen einfachen Zugang zu den Quell- und Zielhaltern ermöglicht. Der Quellenhalter kann Substrate bis 12 „Durchmesser aufnehmen und der Targethalter kann bis zu 20“ Durchmesser aufnehmen. Die Maschine kann Temperaturen zwischen -20 ° C und + 400 ° C verarbeiten und bietet eine breite Palette von Gasarten, Drücke von bis zu 400 mTorr. Es bietet eine überlegene Vakuumumgebung mit einem Druckbereich von 10-4 bis 10-7 mTorr. Das Tool ist mit einem Bedienfeld und einer grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, mit der Benutzer das Objekt von einem entfernten Standort aus steuern und überwachen können. Es ist auch mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen ausgestattet, die den sicheren Betrieb des Modells gewährleisten. Es verfügt auch über ein On-Board-Diagnosegerät, mit dem Benutzer Probleme beheben können, die während des Abscheidungsprozesses auftreten können. DENTON VACUUM DESK II wurde entwickelt, um die Systemverfügbarkeit zu maximieren und zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Es ist eine vielseitige Einheit, die in der Lage ist, eine breite Palette von Abscheideprozessen und Materialien zu handhaben. Es ist ideal für den hohen Durchsatz und die Abscheidung von dünnen Filmen auf einer Vielzahl von Substratformen und -größen. Die Maschine wird entwickelt, um überlegene Prozessstabilität und zuverlässige Leistung zu liefern.