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DENTON VACUUM DESK II
ID: 9199103
Sputter coater.
DENTON VACUUM DESK II (DV2) ist eine Sputteranlage für den Einsatz in Labor- oder Industrieumgebungen. Es wurde entwickelt, um Dünnschichtmaterialien schnell auf Substraten in einer Vakuumumgebung abzuscheiden. Das System ist ein Dual-Magnetron-Setup, das mehrere Materialien in einem einzigen Prozess auf einem einzigen Substrat ablegen kann. Die DV2 ist in der Lage, extrem gleichmäßige Dünnschichtabscheidungsraten über einen Temperaturbereich mit wiederholbaren Ergebnissen zu erzielen. Das Gerät wird von einem 110-Volt-Netzteil gespeist und verwendet einen variablen Frequenzantrieb, um die Leistungsabgabe von der Stromversorgung an die Magnetrons zu modulieren. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheiderate und der resultierenden Dicke der abgeschiedenen Folie. Die Maschine ist in der Lage, Vakuumdrücke von bis zu 760 Torr zu liefern, die für viele physikalische Aufdampfprozesse erforderlich sind. Die DV2 umfasst zwei hinterlegte Quellen, um Materialien einzeln oder in Kombination abzulegen. Die beiden Quellen können durch einstellbare Abstände von bis zu 2,5 Metern getrennt werden und können Abscheideraten bis zu 25 nm/Minute liefern. Die DV2 weist einen variablen Substratträger für flache und zylindrische Substrate auf. Die Temperatur der Substratoberfläche wird durch ein Temperaturregelmodul gesteuert und kann von bis zu -60 ° C auf bis zu 500 ° C eingestellt werden. Das DV2 beinhaltet einen vollständig zugänglichen Ofenraum im unteren Bereich des Werkzeugs. Diese Kammer erreicht Temperaturen von bis zu 1000 ° C und wird zur Erwärmung der Vakuumkammer auf höhere Temperaturen für Glühprozesse verwendet. Der obere Teil des Objekts umfasst eine evakuierte Kammer und ist über eine Tür zugänglich. Diese Tür ermöglicht den Einbau einer Ionenquelle, mit der Metalle, Oxide und andere Materialien auf Substrate gesputtert werden können. Im Hinblick auf die Sicherheit umfasst das DV2 Modell eine Schutztür, um das Risiko einer Exposition gegenüber den extremen Temperaturen der Kammer zu verringern. Zusätzlich ist die Ionenquelle mit Strahlungsabschirmungsmerkmalen ausgestattet, um eine versehentliche Exposition gegenüber ionisierender Strahlung zu verhindern. Insgesamt ist DESK II eine leistungsstarke Sputterausrüstung, die für das Labor- oder Industrieumfeld entwickelt wurde. Es ist in der Lage, mehrere Materialien auf einem einzigen Substrat mit extrem gleichmäßigen Abscheideraten abzuscheiden. Das System ist mit Funktionen ausgestattet, um eine sichere Nutzung und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten.
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