Gebraucht DENTON VACUUM DESK II #9224511 zu verkaufen

DENTON VACUUM DESK II (VD2) ist eine automatisierte Vakuumkammer Sputter Abscheidung Ausrüstung für komplizierte Dünnschichtabscheidung auf einer Vielzahl von Substraten entwickelt. Dieses System ist ein wertvolles Werkzeug zur Durchführung anwendungsspezifischer Beschichtungsprozesse, da es ideal für präzise Dünnschichtabscheidungsarbeiten mit beispielloser Genauigkeit und Reproduzierbarkeit ist. Die VD2 besteht aus drei Hauptmodulen: einer Kontrollstation, einer Quellkammer und einer Prozesskammer. Jedes dieser Module ist unter Berücksichtigung der Benutzersicherheit und Benutzerfreundlichkeit konzipiert. Die Kontrollstation ermöglicht das Session-Setup, das grafische Job-Mapping und die Möglichkeit, die laufende Deposition zu überwachen. Diese Station verwendet eine Touchscreen-Schnittstelle, die einfach zu bedienen ist, so dass der Benutzer das Gerät mit minimalem Training bedienen kann. Die Quellkammer enthält zwei zylindrische Kammern, die durch eine Vakuumdurchführung verbunden sind; eine Kammer beherbergt eine Inertgasquelle wie Argon, während die andere für die Substratheizung verwendet wird. Ein einziger drehbarer Substrathalter dient zum Transport einzelner Proben durch die Vakuumdurchführungskammer. Die Prozesskammer besteht aus einer zylindrischen Kammer mit zwei unabhängig gesteuerten elektrostatischen Waffenquellen, zwei Magneten und einer einzigen HF-Sputterquelle. Diese Komponenten sind so konstruiert, dass die Gleichmäßigkeit der dünnen Schicht, aus der die auf dem Substrat abgeschiedene Folie besteht, maximiert wird. Die Prozesskammer umfasst auch einen gekühlten Substrathalter zur Aufrechterhaltung von Prozesstemperaturen sowie einen Quarzkristalldruckmesser zur Echtzeitüberwachung des Maschinendrucks, wodurch der Benutzer notwendige Anpassungen für den korrekten Betrieb des Werkzeugs vornehmen kann. Die VD2 ermöglicht es dem Anwender, hochwertige Dünnschichten mit Merkmalen bis zu 0,1 μ m zu erzeugen. Diese Vielseitigkeit macht es für eine Reihe von Anwendungen geeignet, von der Geräteherstellung und Nanomusterung bis hin zur medizinischen Diagnostik und Messtechnik. Die Anlage ist auch mit einer Vielzahl von Quellgasen ausgestattet, wodurch sie für eine Reihe von Materialien wie Metalle, Halbleiter, Polymere, Oxide und Nitride geeignet ist. Die VD2 bietet auch den Vorteil von stark wiederholbaren Abscheideprozessen, die Prozessqualität und Reproduzierbarkeit in einem großen Maßstab von Substraten und Anwendungen erhalten. Damit ist eine zuverlässige, gleichbleibende Endproduktqualität gewährleistet, die für präzise Dünnschichtabscheidungsaufgaben unerlässlich ist. Das VD2 ist ein fortschrittliches, benutzerfreundliches Sputtermodell, das leicht in jedes Prototyping- oder Forschungslabor integriert werden kann. Mit seinem fortschrittlichen Design und einer breiten Palette von Optionen bietet diese Vakuumabscheidungsausrüstung eine überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit in der Dünnschichtabscheidungstechnologie.